光のシャワー

光によるクリーニング。これは1970年代初めに考え出された方法です。
紫外線エネルギーが有機物（汚れ）の化学的結合を切断し、分解することは古くから知られていますが、これに、紫外線によって発生するオゾンの強力な酸化作用を組み合わせて、有機物を一気に炭酸ガス・窒素・水などに分解、気化しようというものです。ドライ洗浄であることも大きな特長です。
この光洗浄には、これまで低圧UVランプが用いられていましたが、精密化・微細化が進む半導体や液晶基板の製造分野では、より精密で高効率の新しいUVランプの開発が待ち望まれていました。

1993年、ウシオは、世界に先駆けてエキシマランプ（誘電体バリア放電エキシマランプ）を商品化します。
これまでの放電方式と異なる発光メカニズムによって、真空紫外線（波長180ナノメートル（nm、10－9m）以下の紫外線）で、しかも短波長で単一波長という、ランプでありながらレーザーに似た強力な光を放射します。
エキシマランプの登場は、これまで不可能とされていた光化学反応や、反応自体の高速化を可能にするなど、ハイテク産業分野で大きな注目を集めました。
2000年代に入り、エキシマランプは精密ドライ洗浄用としてユニット化、装置化され、液晶パネル製造分野で大きく花開きます。今日では、必須プロセスとしてほとんどの製造ラインに導入され、拡大を続ける液晶産業の重要な一翼を担っています。