オランダ研究機関にて高輝度EUV光源のファーストライトに成功

ウシオ電機株式会社（本社：東京都　代表取締役社長：浜島　健爾、以下ウシオ）は、2016年12月7日、オランダ応用科学研究機構 （The Netherlands Organization for Applied Scientific Research： 以下TNO）において極端紫外光（EUV）光源の ファーストライト^※を達成いたしましたので、お知らせします。

これは、2016年2月にTNOと締結したEUV技術開発戦略的パートナー契約にもとづいたもので、同年11月に出荷し、同年内のファーストライトを 目指して開発を進めていました。当光源はレーザアシストプラズマ放電方式（SnLDP）を採用しており、TNOにおいてEUVの光学系やマスク、 ペリクルなどの研究開発に用いられるものです。今後TNOは当光源を搭載した装置の調整を進め、2017年4月から全世界の企業や機関などに 向けて各種研究・評価サービスを開始する予定です。

現在、IoTや自動運転技術の高まりに応じて、その実現の鍵を握る半導体にはより一層の性能向上、生産性向上が求められています。 EUV露光技術は、高度な微細化が進む次世代半導体製造工程には欠かせず、すでに10台以上のEUV露光装置の出荷が露光装置メーカーから 公表されているとともに、世界の代表的なデバイスメーカーで実用化が検討されています。

このEUV露光プロセスを量産技術として確立するためには、ウシオが進めている高精細なマスクを検査するための光源の実用化が 必須であり、国際的研究機関での実績は重要なマイルストーンのひとつでした。今後ウシオは、今回の技術をさらに進展させ、 半導体製造プロセスの進化に貢献してまいります。

 
ウシオのEUV光源を搭載したTNOの露光・分析システム  

※ファ―ストライトとは、 光源部と露光部の結合後で初の照射のこと。

オランダ応用科学研究機構（所在地：オランダ、ハーグ）

独立したイノベーション組織であり、産業の競争力と社会福祉を継続的に向上させるイノベーションを創造するために、人々と知識を結びつけ、これがTNOで日々働く2,800名のモチベーションになっています。
TNOは経済と社会的価値の結合的創造を信じ、目的のあるイノベーションこそがTNOが意味するところです。TNOは自らのためではなく、実務的アプリケーションのために知識を発展させています。TNOはパートナーと協働し、ステークホルダとともに確認された5つの変化についてフォーカスしています。
「TNO International Center for Contamination Control」は産業界におけるパートナー各社が、多様な実験施設を活用しコンタミネーションコントロールの研究開発を行なうために設立されました。http://www.tno-pharma.com/