- 特長
- 用途例
- オプション
- よくあるご質問
- 表面処理用エキシマ照射装置のご紹介
- 1.様々なアプリケーションに対応:
ドライ洗浄、親水化/濡れ性向上、接着力向上、アッシング/残渣除去など - 2.高いフォトンエネルギー(7.2eV):
反応性の高い酸素原子(O3p、O1D)や各種ラジカルを短時間に生成することが可能 - 3.低温処理:
水銀を使用していないためランプ温度が低く、温度上昇に寄与する波長が少ない - 4.瞬時点灯:
処理が必要なタイミングのみ点灯することでCoOが向上 - 5.多彩なラインアップ:
業界最高照度/最高露光量/長寿命のランプを提供。
小型製品から長尺、実験機から自動搬送の生産設備まで対応
-
ヒータステージ
-
オゾンフィルタユニット
-
酸素濃度モニタ
-
環境オゾンセンサ
-
照度計
-
遮光/保護メガネの着用は必要ですか
はい、遮光/保護メガネの着用を推奨します。
172nmの光は大気中で急激に減衰しますが、長波長側の光も172nm強度の1/100程度出ています。
低照度であればほぼ影響はありませんが、高照度/長時間使用などを想定した場合、
遮光/保護メガネをご使用頂くことをお勧め致します。 -
N2のユーティリティは必須ですか
必須のモデル、あると効率が良くなるモデル、不要のモデルがあります。
ご使用環境/条件、処理速度などをご連絡頂けましたら、
弊社より最適な製品の提案をさせて頂きます。 -
オゾン排気はどのように行ったらよいでしょうか
ドラフターの中でご使用頂く、処理空間をダクトで局所排気する、などが一般的な手法です。
ランプハウス/処理空間のパージガスも同様に排気が必要となります。
安全に関わる仕様のため、詳細は設置に関わる注意事項をご確認いただき弊社営業担当へご相談下さい。 -
照射実験/デモ機貸し出しは可能ですか
可能です。照射実験を実施する場合は兵庫県姫路市の弊社Labで評価を行います。
SEM、XPS、FT-IRなどの分析装置を保有しており
評価機関よりも安価に表面分析を行うことが可能です。
また、照射後の表面は変化しやすいため、照射後すぐに分析できる、というメリットもあります。 -
大気雰囲気中でも洗浄効果は得られますか
大気中でも洗浄効果を得ることは可能です。
しかし、ランプから照射物までの距離を取りすぎると、光が到達せずに効果が落ちてしまいます。
照射実験の際などは、照射距離の設定にご注意ください(推奨:2~4mm程度)
雰囲気を制御することで、照射距離を伸ばす/立体物への照射も可能です。 -
最適な雰囲気、照射距離はどれくらいですか?
大気雰囲気の場合は2~4mm程度を推奨します。
処理雰囲気中の酸素濃度を変える、照射距離を伸ばすなどの場合、
最適なパラメータを見つけることが必要です。
ご参考までにガラス基板の接触角変化についてのパラメータを掲載します。
(縦軸:照射後の接触角/横軸:照射時の酸素濃度)
カタログダウンロード
お問い合わせ
お電話でのお問い合わせ 03-5657-1033
関連製品
関連論文
-
・Improvement of Coherency of the Panel Level Package by Integrated Dry Process
-
・New desmear process of organic substrate applications by Photodesmear technology
-
・誘電体バリア放電を利用したAr,Krエキシマランプの開発 DEVELOPMENT OF Ar,Kr,EXCIMER LAMPS USING DIELECTRIC BARRIR DISCHARGE
-
・高効率カドミウムイオンランプ CADMIUM ION LAMPS WITH HIGH RADIANT EFFICIENCY
-
・28a-ZT-6 誘電体バリア放電ランプによるポリイミドの表面改質 Surface Modification of Polyimide by VUV lamp
-
・A Study of Photoresist Pattern Freezing for Double Imaging using 172nm VUV Flood Exposure
-
・無声放電励起真空紫外希ガスエキシマランプの開発 Vacuum Ultraviolet Rare Gas Excimer Lamps Excited by Silent Discharges
-
・新しい紫外光源「エキシマランプ」に関する研究 Studies on an excimer lamp as a new UV source.
-
・20a-ZV-10 誘電体バリア放電を利用した XeClエキシマランプ Dielectric Barrier Discharge Driven XeCl Excimer Lamp
-
・Photochemical Removal of NO, NO2, and N2O by 146nm Kr2 Excimer Lamp in N2 at Atmospheric Pressure
-
・28. 誘電体バリア放電を利用した XeCl*エキシマランプ XeCl* Excimer lamp with Dielectric Barrier Dischages
-
・28p-ZV-3 エキシマランプによるSiウエハのUV/オゾン洗浄 UV/Ozone cleaning of Si surface by excimer lamp
-
・Vacuum ultraviolet-induced strain in vitreous silica used for xenon lamp bulbs
-
・No.45 希ガスエキシマ光の発光特性 Emission characteristics of rare-gas excimers
-
・28a-SC-2 エキシマランプによるポリアセタールの表面改質 Surface Modification of Polyoxymethylene with Excimer Lamp
-
・Role of UV Irradiation during Si Etching Process in Chlorine Plasma
-
・30p-ZE-2 誘電体バリア放電Xe2*エキシマランプによる 石英ガラスのUV/O3洗浄 UV/O3 Cleaning of Slica Glasses with Xe Excimer Lamp
-
・Regeneration of imprint molds using vacuum ultraviolet light
-
・有機非線形光学材料の新展開 波長のマニピュレーション エキシマ光によるプラスチック表面への 官能基置換と非線形性発現の可能性
-
・27. 誘電体バリア放電を利用した ヘッドオン型Xe2*エキシマランプの特性 Head‐on Xe2* Excimer lamp with Dielectric Barrier Dischages
-
・27a-HE-6 172nm誘電体バリヤ放電ランプによる テフロンの親水性処理 Surface Modification of Teflon by 172nm VUV lamp
-
・27a-HE-4 172nm誘電体バリア放電ランプによる ポリイミドの表面改質 Surface Modification of Polyimide by 172nm VUV lamp
関連ニュース
- 2018年12月5日半導体製造プロセス向け、高照度かつコンパクトなエキシマ光照射ユニットを開発
- 2015年6月24日ウシオ、細菌感染を減少させる人体に無害な紫外線殺菌法の独占ライセンス契約及び研究委託契約をコロンビア大学と締結
― 手術部位の細菌感染などを防ぐ ― - 2013年10月29日ウシオ電機が岐阜大学、アクトリーと共同で 世界初、常温かつ無触媒でNOxを分解できる「VUV直接脱硝」技術を開発
- 2011年2月23日ナノインプリントVUVアッシングユニット「CHiPs」の販売を開始
- 2008年11月28日193nm光の「ArFエキシマランプ」販売を開始
- 2007年11月28日世界初* 発光波長193nmのArFエキシマランプを実用化