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製品名 製品説明 主な用途・分野 波長
シネマプロジェクタ用クセノンランプ Barcoシネマプロジェクター用クセノンランプ 高輝度・高再現性を実現したデジタルシネマプロジェクタ専用クセノンランプDXLシリーズです。 業界最高品質を誇り、世界中の映画館で愛用されています。 業界唯一、すべてのデジタルシネマプロジェクタメーカーに全品種認定されています。
NECシネマプロジェクター用クセノンランプ 高輝度・高再現性を実現したデジタルシネマプロジェクタ専用クセノンランプDXLシリーズです。 業界最高品質を誇り、世界中の映画館で愛用されています。 業界唯一、すべてのデジタルシネマプロジェクタメーカーに全品種認定されています。
SONYシネマプロジェクター用クセノンランプ 高輝度・高再現性を実現したデジタルシネマプロジェクタ専用クセノンランプDXLシリーズです。 業界最高品質を誇り、世界中の映画館で愛用されています。 業界唯一、すべてのデジタルシネマプロジェクタメーカーに全品種認定されています。
可視化用シートビームレーザー光源 赤色レーザーダイオードの光を直接用いた新発想の流体可視化用ハイパワーシートビームレーザー光源です。 高速度カメラとの組合せで、流速の空間分布を得ることができます※1。 レーザーダイオードの光を直接使うので、従来使用されているDPSSレーザー※2に比べ、ハイパワーながら低価格、低消費電力を実現しました。 自動車、航空機はもとより、建設、空調機器、半導体製造装置、医療機器等においても、空間的な流れの理解・把握はエンジニアリング上欠かせないものとなっています。 ※1 解析方法により、 PIV (Particle Image Velocimetry), PTV (Particle Traking Velocimetry) と呼ばれる流体解析に広く使われる手法です。 ※2 Diode Pumped Solid State。波長変換による可視光域レーザーです。
赤外発光ダイオード「IREDシリーズ」 独自のドームチップ形成技術により、高出力化を実現。また、精密なレンズ(パッケージ)設計技術により、良好なビーム形状を提供しています。NC工作機やロボットなどへのエンコーダー用光源として、さらには検眼機用光源、位置検出用光源に最 適な製品となっています。 【この製品は、ウシオオプトセミコンダクターの製品です】
目視検査用光源ユニット「230VILS」 高精細な検査を簡単に。 目視検査に適したランプ搭載の新型光源ユニットです。

カタログを見る PDF(514KB)

波長安定・狭帯域化レーザーユニット 「NovaTru CHROMA」 波長安定・狭帯域化レーザーユニット 「NovaTru CHROMA」

ラマン分光、干渉計測等のご用途に向け開発された、半導体レーザの高効率・コンパクトネスと、ガスレーザの波長安定性を兼ね備えた新しい光源です。
波長回折素子、VBG®により半導体レーザ光を波長安定・狭帯域化して出力します。 超狭帯域(Δλ<0.01pm)の縦横シングルモードモデルと、高出力のマルチモードモデルがあり、ラマン分光に適した633nm, 785nm, 1064nm 等各波長取り揃えています。 ドライバを含めて76×64×18mmのコンパクトボディ*で、研究用途から機器組込までオールマイティにご使用いただけます。 出力はファイバ出力と平行光出力から選べます。

*高出力マルチモードモデルを除く

空間殺菌・脱臭用光オゾナイザー「XeFIria(ゼフィリア)シリーズ」 世界初、水銀フリーのランプを搭載した空間殺菌・脱臭用光オゾナイザーです。 従来の紫外線方式と比べ、約10倍のオゾン生成力により、低温環境化や瞬時点灯/消灯が可能なほか、NOxレスにより、安全・安心にご使用いただけます。
高度清浄加湿装置「うるおリッチ」

うるおリッチは、独自の殺菌・脱臭・空気清浄機能を搭載した業務用加湿器です。 医療施設や福祉施設の共用スペース、オフィス、工場内のスポット加湿や美術館など、さまざまな環境でご利用頂けます。
【この製品は、三協エアテックの製品です】

分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」 分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」

ウシオでは、サーバーやPC、スマートフォン、タブレット端末等の携帯機器に採用される最先端パッケージングアプリケーションに特化したステッパーを提供してきました。ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用い、パネルサイズに対応したステージを用いたパッケージ基板向けステッパーです。最先端パッケージ基板に求められる高い解像性や重ね合せ精度を実現しつつ、高生産性を達成しています。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系 ・他に類を見ない大面積投影レンズ

投影露光装置「UX-4シリーズ」 投影露光装置「UX-4シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

マスクアライナー「UX-1シリーズ」 マスクアライナー「UX-1シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」 ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」

累積800台以上の市場実績がある、ウシオのフレキシブル基板用プロキシミティ/投影露光装置のラインナップ。専用に開発した高出力ランプ、定評のある光学系技術を駆使した投影レンズにより、高効率で高解像度な露光を実現します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け) EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け) 半導体業界では、より高性能でコンパクト、更に低消費電力の半導体の実現に向け、超微細化露光技術の開発が進められています。その中で有力視されているのが波長13.5nmのEUV(Extreme Ultraviolet)光による「EUV露光」です。 ウシオは、これまで培ってきたEUVの研究・開発実績を活かし、EUV露光用のマスク検査装置向けを始め、各種開発用途向けのEUV Xe DPP およびEUV Sn LDP光源の開発を行なっています。
エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット

エキシマVUV光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生みだされる非常にエネルギーの高い光です。

希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギー電子を与えると放電プラズマ(誘電体バリア放電)が多数発生します。このプラズマは高いエネルギー電子を包含しており、かつ瞬時に消滅するという特徴を持っています。このプラズマ放電により、放電ガス(希ガス)の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態(Xe)となります(エネルギーの高い軌道原子に励起され、エキシマ励起分子になります)。このエキシマ状態から元の状態(基底状態)に戻るとき、そのエキシマ特有のスペクトルを発光します。この光をエキシマVUV光と呼んでいます。

■取扱説明書や仕様書はこちら(会員登録が必要です)

プリンタブル パターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」 プリンタブル パターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」

世界初ランプ方式の真空紫外平行光アライナー。
真空紫外光による親水化パターニング方式により従来のリソグラフィープロセスに比べ大幅な工程短縮を実現すると共に印刷方式では得られない微細パターン形成を実現します。有機トランジスタ、ウェアラブルセンサー、バイオデバイスなど新しい領域の実現へ道を開きます。また、新開発の高輝度パルス光源(PAT出願中)を平行光化することで、L/S=5/5μm以下の解像性能を実現。大面積化のご相談も承ります。
※使用レジスト:東京応化工業株式会社製:TArF-P6111(膜厚260nm)

紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード®」 紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。 超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。
チャージイレース装置 チャージイレース装置 強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。
紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュア®システム」 紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュアシステム」 ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。 取扱説明書はこちら (会員登録が必要です)
LEDスポットUV照射装置 「SPL-2」 LEDスポットUV照射装置 「SPL-2」 30年以上の実績を持つスポットキュアシリーズのLEDタイプです。今までに培ってきた光学技術を生かし、従来LED式では実現できなかった課題を解決。お客様のニーズに合わせた照射をご提案いたします。
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