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製品名 製品説明 主な用途・分野 波長
エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット

エキシマVUV光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生みだされる非常にエネルギーの高い光です。

希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギー電子を与えると放電プラズマ(誘電体バリア放電)が多数発生します。このプラズマは高いエネルギー電子を包含しており、かつ瞬時に消滅するという特徴を持っています。このプラズマ放電により、放電ガス(希ガス)の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態(Xe)となります(エネルギーの高い軌道原子に励起され、エキシマ励起分子になります)。このエキシマ状態から元の状態(基底状態)に戻るとき、そのエキシマ特有のスペクトルを発光します。この光をエキシマVUV光と呼んでいます。

■取扱説明書や仕様書はこちら(会員登録が必要です)

紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード®」 紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。 超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。
チャージイレース装置 チャージイレース装置 強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。
紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュア®システム」 紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュアシステム」 ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。 取扱説明書はこちら (会員登録が必要です)
露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
【この製品は、ウシオライティングの製品です】

Deep UVランプ Deep UVランプ キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。 230nm~320nm付近の遠紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。
高出力白色レーザーユニット「NovaLum」 高出力白色レーザーユニット「NovaLum」

コア径が400μmのファイバから、赤、緑、青レーザーにより250lmまたは700lmの白色光を出力できるパッケージ及びご要望に応じ紫外、赤外領域の希望波長から選択できるパッケージです。
また、Necsel Intelligent Controllerにより、各色のバランスを調整する事で、あらゆる色を表現できます。さらに、温度フィードバック、高速変調も装備しており、多機能なため、幅広い用途やシステムにお使いいただけます。

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