超高圧UVランプ

ウシオの超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。

アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。

回路とパターン焼き付け照度ニーズの高まりに対して、小型（100wクラス）～超大型（35kwクラス）まで、幅広いサイズのランプで対応します。

既存装置のスループット向上のニーズに対して、高照度ランプを使用するだけで、確実に生産性の向上が期待できます。
※一部の装置メーカー製品では装置の改造が必要となる場合があります。

お客さまの新規装置の開発にあわせて、ベストフィットなランプを開発します。詳細はお問い合わせください。

• 半導体回路形成用光源
• 液晶パターン形成用光源
• カラーフィルターパターン形成用光源
• プラズマディスプレィパターン形成用光源
• プリント基板回路形成用光源
• MEMSパターン形成用光源
• その他新規露光用途　　など

リソグラフィから検査･実験まで、さまざまな用途に応じた点灯電源を取り揃えています。

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