ランプ・光源

紫外線波長領域の中でも、特に436／405／365nmを有効に活用でき、長寿命で安定した放射強度を持つ高輝度ランプです。

紫外線領域で幅広い線スペクトルを持ち、 UV硬化や乾燥など、さまざまな光化学反応分野で活用されています。

クセノンランプの幅広いスペクトルと超高圧UVランプの高いエネルギーを併せ持ったランプです。

超高圧UVランプをベースに開発されたプロジェクタ用ランプです。小型、高輝度、フリッカーレス、高信頼性を実現しました。

キセノンガスを封入し、瞬時に大光量・高光束が得られ、繰り返し発光ができるランプです。画像処理や光反応など幅広く活用されています。

希ガス（Xe）を封入した水銀レスのクリーンなランプで、CCDスキャニングなどの原稿読み取り用として活用されています。

演色性が高く、店舗施設、屋外、スタジオ・舞台照明などに活用されています。一般照明から特殊用途まで、多彩な品種を揃えています。

光を熱として利用するランプで、フレキシビリティとコントロール性に富み、高効率・クリーン・小型軽量など、 他の熱源にはない優れた特長を持っています。

紫外線から近赤外線まで広い波長領域をカバーし、豊富な製品ラインアップで産業用途にお役立ていただけます。

ランプの「ブロード波長」と固体光源の「長寿命」をあわせもつ高輝度で高安定な新光源です。

波長13nmの極端紫外線を放射する光源です。KrF/ArFレーザに続く半導体リソグラフィ用光源として開発を進めています。