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次世代半導体用 極端紫外光源 EUV
”半導体の集積密度は、ほぼ2年で倍増する”。世界最大の半導体メーカ Intel社の創設者ムーア氏が提唱した「ムーアの法則」にそって半導体は進化し、私たちの身近な製品に革新をもたらしました。
より微細に、より高性能に、よりコンパクトに･･･半導体製造では、その実現に向け、今、ハーフピッチ20nm以細の次世代半導体の量産を目指して開発が進められています。それを実現するために最も重要と言われているのが、13.5nmの極めて短い波長を持ち「究極のリソグラフィ用光源」と呼ばれている、「EUV」です。
このEUVの実用化に向け、ウシオはグループ会社であるエクストリーム（ドイツ）※1との強力な協同開発体制のもと、早期の量産化に向けて開発を行なっています。
DPP方式EUV光源（量産試作露光装置用）
DPP方式EUV光源（Small Field Exposure Tool用）※NEDO（独立行政法人 新エネルギー･産業技術総合開発機構）委託研究開発で使用
EUV関連ニュース
- ウシオ電機製EUV光源、欧州研究機関に採用（2010.12.16）
- EUV事業譲受でフィリップスと基本合意（2010.04.26）
- ウシオ電機、独エクストリームを100％子会社化（2008.05.26）
- フィリップス、イエナオプティックと業務提携で基本合意 （2007.10.30）
EUV最新資料
- First Tin Beta SoCoMo ready for Wafer Exposure（EUVLシンポジウム発表資料 2010年10月）
（PDF：1.86MB） - Tin DPP Source Collector Module (SoCoMo): Status of Beta products and HVM developments（SPIE vol.7636発表資料 2010年7月） （PDF：948KB）
EUV開発とウシオグループ
ウシオは、IC（集積回路）の製造がはじまった1960年代から、最先端リソグラフィ用光源を開発・提供してきました。今日では、フォトリソグラフィ用UVランプ（世界シェア75％）は200品種におよび、高い評価と信頼をいただいています。その光源技術を活かし、EUV光源の開発・量産化を進めています。
ウシオのEUV開発ロードマップ（クリックすると拡大します）
ウシオ電機のEUV開発経緯
| 2001年 | エクストリーム設立 |
|---|---|
| 2002年 | ＥＵＶＡ発足、ウシオ参画 |
| 2005年 | ウシオ、エクストリームの株式５０％を取得 |
| 2006年 | フィリップスEUVがα機を出荷 |
| 2007年 | ウシオ／エクストリームがα機を出荷 |
| 2007年 | ウシオとフィリップスが業務提携 |
| 2008年 | エクストリームとフィリップスEUVが共同研究を開始 |
| 2008年 | エクストリーム/フィリップスEUVが、発光点で500Wの出力を実証 |
| 2008年 | ウシオ、エクストリームを100％子会社化 |
| 2010年 | EUVAで発光点出力１kＷを実現 |
| 2010年 | フィリップスEUVより事業買収 |
|
*1エクストリーム（XTREME technologies GmbH）は、2001年、DPP方式のEUV光源の研究開発メーカとして設立。2008年にウシオ電機の100％子会社となり、同じDPP方式のEUV光源を開発する
フィリップスEUVと共同研究を開始。さらに、2010年には、エクストリームに対するフィリップスEUVのEUV事業譲渡が合意され、DPP方式のEUV光源の開発・製造がエクストリーム1社に集約された。 |
お問い合わせ
ウシオ電機株式会社
東京 TEL: 03-3242-5615 / FAX: 03-3242-0695
