紫外線波長領域の中でも、特に436/405/365nmを有効に活用でき、長寿命で安定した放射強度を持つ高輝度ランプです。
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半導体製造関連
半導体の製造プロセスで活用される光製品をご紹介します。
半導体製造関連
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光を熱として利用するランプで、フレキシビリティとコントロール性に富み、高効率・クリーン・小型軽量など、 他の熱源にはない優れた特長を持っています。 |
数ミリ秒の短時間に大光量のパルス光を発します。照射物の表面のみの温度を上げるため、サーマルバジェットの少ない処理が可能です。 |
波長180nm以下の真空紫外光（VUV）を効率よく放射します。 |
波長13nmの極端紫外線を放射する光源です。KrF/ArFレーザに続く半導体リソグラフィ用光源として開発を進めています。 |
UVランプ内蔵で、使いやすいスポットUV照射装置です。ラインやワークに合わせたレンズやユニットなどのオプションも豊富です。 |
世界最小・最軽量、ハイパワーをLEDで実現しました。 |
紫外領域から赤外領域までの連続発光で、発光パルスは水銀ランプの50倍以上。高ピーク照度・低温処理・省エネなど、まさに新時代のUV装置です。 |
ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。 |
ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low－kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。 |
ウェハの外周部および、チップレイアウトに沿って、「ステップ的」「全面」が用途に応じて選べるＵＶ照射装置です。 |
投影露光方式（片面一括露光・両面同時露光・ステップ&リピート）、プロキシミティ露光方式など、多彩な露光装置をご紹介します。 |
ウェハやマスクの外観検査、フレキシブルプリント基板などの回路検査、ガラス面検査を行う外観検査装置をご紹介します。 |
光源メーカーとして、ユーザーの立場から開発した「正確で使いやすい」光量・照度の測定機器をご紹介します。 |
