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ウェハ周辺/ステップ/全面露光装置

ウェハの「外周」露光、チップのレイアウトに沿った「ステップ」露光、ウェハの「全面」露光と、用途に応じて選べるＵＶ照射装置です。
～φ8インチ、～φ12インチのユニットタイプ、スタンドアローンタイプなど、ご相談に応じます。

製品写真

特徴

  • 高照度、均一度照
  • 高精度露光
  • 高スループット
  • 高操作性、クリーン搬送
  • 豊富なバリエーション

処理前/処理後

主な用途

周辺露光

  • パーティクルの発生防止
  • 膜剥がれ防止メッキ
  • 電極のレジスト開口　　など

ステップ露光

  • パーティクルの発生防止
  • 膜剥がれ防止
  • 周辺部のチップの抹消
  • エッチング時エンドポイントの検出、およびパターンレシオのコントロール
  • CMPの均一化、ダイシング工程の効率化　　など

全面露光

  • CCD、CMOSイメージャのブリーチング
  • リワーク
  • 表面改質　　など

お問い合わせ

東京 TEL: 03-6361-5591 / FAX: 03-6361-5599

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