紫外線ホトレジスト硬化・チャージイレース装置 「ユニハード」
紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化・チャージイレース装置です。
超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。
特徴
高照度、均一度照射
初期照度は650mw/cm2以上(220~320nm)を、照度均一度は±10%を保証しています。
SEMI準拠したロードポートを採用したEFEM(φ12インチ装置)
φ12インチ用装置は、ロードポート(SEMI準拠)を採用したEFEMを、搬送系はクリーンでスピーディーな2フィンガー搬送ロボットを採用し、高いスループットを実現しました。
WindowsNT PCを採用した高い操作性とGEM300を準拠(φ12インチ装置)
φ12インチ用装置はWindows NT PCを採用し、高い操作性を実現しました。GEM300にも準拠しています。
容易なランプユニット交換
ランプユニットは、交換時の調整が不要で、装置のダウンタイムを低減します。
照度一定モード、積算露光モードを搭載(φ12インチ装置:オプション)
照度一定モード、積算露光モードを使用することで、プロセスの安定化、均一化を実現します。
豊富なラインナップ
φ6インチ用装置( Φ5インチ以下の兼用も可能)、φ8インチ用装置( Φ6インチ以下の兼用も可能)、φ12インチ専用装置など、あらゆるワーク・カセットに対応します。また、エキシマランプを搭載した~φ8インチ用装置もあります。
2フィンガー搬送ロボット
ランプユニット
主な用途
- ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上
- イオン注入時のレジスト脱ガス及び焼きしめ
- 電荷の消去、ストレスイレース
- Low-kキュア
- 薄膜磁気ヘッドの層間絶縁膜形成
- 化合物半導体のリフトオフ工程
- 表面改質
- CCD、CMOSイメージャのブリーチング など
テスト機のご案内
製品を使用しての各種テストが可能です。詳細はお問い合わせください。
※ご依頼内容によって、ご希望に添いかねる場合もございますので、予めご了承ください。
お問い合わせ
東京 TEL: 03-6361-5591 / FAX: 03-6361-5599