100℃の低温域から1200℃の高温域まで幅広い温度域に対応できます。各熱処理プロセスの標準熱源として幅広く採用されています。

「高速昇降温と非接触加熱」が可能で、さらに基板大型化に対応するため、最長2.5Mまで、長尺化を可能にしました。

プリフォームのような透過性のある材料を加熱する場合は、ハロゲンランプヒータによる表裏均一な光加熱が有効です。

ウシオは、光の「熱源」としての可能性に早くから取り組み、新素材・宇宙開発といった最先端の科学分野にも幅広く「光加熱」を提案しています。