エピタキシャル

• エピタキシャル成長に必要な1200℃の高温熱処理プロセスには、ハロゲンランプヒータが最適です。また長寿命は、ランニングコスト低減が可能で、CoOに大きく寄与します。

CVD/PVD

• 瞬時点灯が可能なハロゲンランプヒータは、ホットプレートのように温度が安定するまで長時間待つ必要がありません。またクリーンな非接触加熱は、コンタミネーションの心配がありません。

洗浄・乾燥

• ハロゲンランプヒータの高速応答性が、純水・薬液の温度を精密にコントロールします。
• 又、ハロゲンランプヒータは高純度石英で出来ており、不純物を発生させません。
• ハロゲンランプヒータによる非接触加熱は、ウェハ洗浄後のクリーンな乾燥が可能です。

優れた昇降温性能

熱容量の小さなタングステンフィラメントを発熱体とし、非接触?高速昇降温が可能です。
シリコンウェハを加熱した場合、250℃/秒を超える高速昇温も可能。サーマルバジェット低減や薄膜形成・浅い接合層形成などに不可欠な熱源です。
また、常時電力を消費する抵抗加熱源と異なり、すばやい立ち上がり性能は、必要な時ON、不要な時OFFで、ランニングコスト低減、タクトアップなどCoO低減に大きく寄与します。

高いコントロール性能

光学設計されたヒータユニットと専用PID制御システムにより、低温域から高温域まで、他の熱源では達成できない、優れた温度コントロールを実現します。
更にハロゲンランプヒータによる非接触加熱は、クリーン加熱のみならず、装置設計に高い自由度を与えます。

小型・クリーンな熱源

ハロゲンランプヒータは、小型・軽量であるにも関わらず、大きなエネルギーを出力可能なため、狭い場所にも設置可能です。また、非接触加熱のため、クリーンな雰囲気を保ち、大気中・真空中など加熱雰囲気も問いません。光加熱は、ガスを放出することもなく、CO2放出削減にも効果があります。

長寿命で一定のエネルギー放射

ハロゲンサイクルの働きで、他のハロゲンランプヒータにはない長寿命設計が可能です。更に、他熱源のような経時変化がなく、寿命末期までほぼ一定のエネルギー放射を維持します。