Table Top型 pulse制御 flash照射装置

ミリ秒加熱をあなたの実験室にも。

表層加熱の最適プロセスを見つけられます。

パルス幅、エネルギーを各々制御することにより、加熱深さ、温度のパラメーターを振った、幅広い実験が可能となります。

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フラッシュランプのパルス制御による処理深さのコントロール

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主な特長

チップ実験に最適な小型サイズ。研究室のtable上にも置けます。

サブmsecから9.9msecまで、光パルス持続時間を変更できます。

エネルギーを数mJ/cm²から数10J/cm²まで可変できます。

照射チャンバー内の雰囲気をN₂,Arなどに置換できます。

セパレートタイプの操作パネルで、条件設定、照射が手元でできます。

照射部アップ

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