光CVD

【英語名】 photo chemical vapor deposition

【読み方】ひかりしーぶぃでぃ

解説

光CVDとは、光放射で材料ガスを光分解させ、発生したラジカルを基板上で再結合させて、薄膜を形成させる技術のこと。
光源（放射源）には、エキシマレーザ、ランプ、シンクロトロン放射などが使われる。