光CVD

photo chemical vapor deposition ひかりしーぶぃでぃ

解説

光CVDとは、光放射で材料ガスを光分解させ、発生したラジカルを基板上で再結合させて、薄膜を形成させる技術のこと。
光源(放射源)には、エキシマレーザエキシマランプ低圧水銀ランプシンクロトロン放射などが使われる。