nano tech 2017出展のご案内

■ プリンタブル パターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」
世界初ランプ方式の真空紫外平行光アライナー。

真空紫外光による親水化パターニング方式により従来のリソグラフィープロセスに比べ大幅な工程短縮を実現すると共に印刷方式では得られない微細パターン形成を実現します。有機トランジスタ、ウェアラブルセンサー、バイオデバイスなど新しい領域の実現へ道を開きます。また、新開発の高輝度パルス光源（PAT出願中）を平行光化することで、L/S=5/5μm以下^※の解像性能を実現。大面積化のご相談も承ります。

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■ 瞬間加熱・高温焼成「フラッシュランプアニール」
1/1,000秒という極めて短い時間での、光による非接触・瞬間加熱プロセスを実現します。
UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの光により、基板・材料の表面加熱が可能です。


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■ 印刷用UV-LED「UniJetシリーズ」
紫外線硬化や印刷に関わる市場の厳しい要求を満たすために最適に設計・開発されたUV-LED光源のモジュールです。
このモジュールが併せ持つ水冷、空冷、調光の様々な機能によって、それぞれのお客様が求める仕様やニーズを確実に実現することができます。

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■ リアルタイム三次元計測器（参考出展）
干渉計および位相差顕微鏡の一種、デジタルホログラフィーの原理を元に、 「三次元計測」×「高速0.05秒/shotリアルタイム」を実現した光学計測器（顕微鏡）です。

μmレベルの微細三次元デバイスの全面・全数検査、そしてリアルタイム流体・形状挙動計測など、従来にはなかった新たな計測器／顕微鏡として幅広くご活用頂けます。

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■ 光機能部品のご紹介
μm～サブμmスケールの光学設計・露光・成膜・エッチング技術により、事例として、偏光板、マイクロレンズアレイ、反射防止構造などの光学素子や、ナノインプリント用モールド等、様々な機能を持つ微細加工デバイスを開発しています。
これらは大面積に均一性よく作製することが可能なだけでなく、基板材質も石英、Ｓｉ他、各種半導体基板、セラミック基板などに対応可能です。

ご要望がございましたらまずはご相談ください。
 

■ Photobonding^®
真空紫外光（エキシマランプ）による接合です。
光により、材質表面を活性化し改質することで、樹脂・ガラスなどの接合を実現します。

■ ウシオのUV硬化装置
低温で瞬時に硬化するため、高生産性を確保します。
また、ランプタイプ／LEDタイプ、スキャン／一括／スポットに対応しています。

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■ VUVオゾン洗浄
真空紫外光および真空紫外光によって発生した活性酸素種により改質を行います。

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