Ushio Innovation Lab 日本
R&Dと生産ネットワークの中心となる播磨事業所、そして「光のシステム」のノウハウが集約された御殿場事業所。
■ 播磨事業所での主な実験内容
真空紫外～紫外から赤外までの幅広い波長照射はもちろん、ランプやレーザー、LEDなど各種光源による実験、照射後の材料分析・測定まで幅広く対応します。
【真空紫外光】 半導体ウェハのUVキュア・改質、フィルムの改質、フレキシブル基板への微細パターニング、ガラスやフィルムなどの洗浄・改質
【紫外光】 レジストへのパターニング、UV硬化樹脂による硬化・接着・接合
【可視光】 PIV・流体可視化、加熱・改質、プロジェクション
【赤外光】 急速加熱・改質、センシング
【分析・測定】 バンプ高さ測定、表面凹凸、流体観察 など
■ 御殿場事業所での主な実験内容
半導体・FPD製造を中心に、装置の設計や開発・製造はもちろん、製造プロセスの改善や量産化の検討も行います。
【VUV照射実験】 真空化でのVUV照射による表面改質（親水化、接合、改質など）
【パターニング実験】 感光性材料へのパターン形成（Si、ガラス、セラミック、化合物半導体、フレキシブル基板、有機基板など）
【配向実験】 偏向紫外線照射による物質の異方性生成（無アルカリガラス、フィルムなど）
【ハードニング実験】 赤外線加熱と紫外線によるキュアリング（ウェハなど）
