プリンタブル パターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」

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世界初ランプ方式の真空紫外平行光アライナー。

真空紫外光による親水化パターニング方式により従来のリソグラフィープロセスに比べ大幅な工程短縮を実現すると共に印刷方式では得られない微細パターン形成を実現します。有機トランジスタ、ウェアラブルセンサー、バイオデバイスなど新しい領域の実現へ道を開きます。また、新開発の高輝度パルス光源(PAT出願中)を平行光化することで、L/S=5/5μm以下の解像性能を実現。大面積化のご相談も承ります。

※使用レジスト:東京応化工業株式会社製:TArF-P6111(膜厚260nm)

L/S=5/5μm以下の解像性能
※ 使用レジスト:東京応化工業株式会社製:TArF-P6111(膜厚260nm)
プロセス削減による大幅なプロセスコストダウン
低温処理
大気下で使用可能

原理

原理1. 親水化

原理2. 各種分子結合エネルギーとフォトンエネルギーの比較

※このグラフは光エネルギーの大きさを結合エネルギーと単に比較したものであり、結合エネルギー以上の光を照射すると必ず解離するわけではありません。光の吸収があること、励起ポテンシャルが解離型であることなどの条件が必要です。

親水化の例1. 水の接触角変化

【処理条件】
照射時間:10秒、サンプル:無アルカリガラス、雰囲気:大気中、照射距離:2mm

親水化の例2. プラスチックの表面改質

有機トランジスタ、ウェアラブルセンサー、バイオチップ
金ナノ粒子パターニング

単層に分散した状態で金ナノ粒子を固定化
写真提供:九州工業大学 大学院生命体工学研究科 生体機能応用工学専攻 教授 安田 隆様

AHAPS-SAMのパターニング

AHAPS-SAMにフォトマスクを介してVUV照射後、蛍光色素(TAMRA)にてパターン部を可視化。
※AHAPS:正式名 N-(6-aminohexyl)-aminopropyltrimethoxysilaneN-(6-アミノヘキシル)アミノプロピルトリメトキシシラン

【蛍光観察像】
VUV照射 2分
N2雰囲気
10nmSiO2(熱酸化膜)/Si
蛍光染色TAMRA

SAMパターニング

撥水性のSAM(自己組織化単分子膜)上にフォトマスクを介しVUV光を照射。VUV照射領域に親水パターンを形成。親水領域にのみ導電性ナノインクを塗布することで5umL/Sを形成。

SAM膜上での導電性Agナノインクパターン(20um Gap)

VUVパターニングを応用した有機トランジスタ (トランジスタ配線)

タイプ 平行光 高解像力タイプ 高照度 大面積タイプ
型式 SUS 740 SUS 746
外観
マスクサイズ 4インチ
ワークサイズ φ30mm □76×26mm*1
露光波長 150~200nm *2
172nm
照度 10mW/cm2
光学系イメージ図 平行光
発散光
手動アライメント機能 *3 有(①XYZθステージ ②アライメント顕微鏡)
プリントギャップ方式 スペーサ突き当て方式
ユーティリティ AC100V
N2:10NL/min N2:4~10NL/min
筐体オゾン排気 1~2m3/min
オプション オゾンフィルター、照度計

*1:上記以外の大面積対応についても別途承ります。
*2:本データは参考値とお考え下さい。VUV域の分光測定は技術的に難しく、研究機関と協力しながら進めている状況です。
*3:オートアライメント、自動搬送機等のご要望については個別に承ります。

VUVとはなんですか?

波長200nmより短波長の紫外線をVUV(Vaccum Ultraviolet)=真空紫外光と呼びます。波長の持つ光子(フォトンエネルギー)が高い一方、大気圧下では大気への吸収が生じます。

搭載光源