製品一覧
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| 製品名 | 製品説明 | 主な用途・分野 | 波長 | ||
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エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット | エキシマVUV光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生みだされる非常にエネルギーの高い光です。 希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギー電子を与えると放電プラズマ（誘電体バリア放電）が多数発生します。このプラズマは高いエネルギー電子を包含しており、かつ瞬時に消滅するという特徴を持っています。このプラズマ放電により、放電ガス（希ガス）の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態（Xe）となります（エネルギーの高い軌道原子に励起され、エキシマ励起分子になります）。このエキシマ状態から元の状態（基底状態）に戻るとき、そのエキシマ特有のスペクトルを発光します。この光をエキシマVUV光と呼んでいます。 表面処理用エキシマ照射装置のご紹介 |
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光配向装置 | ウシオの光配向技術は、高い偏光・光学・機械設計技術を駆使しており、お客様に最適な装置を提案することが可能です。 254nm、313nm、365nmを始めとした、様々な材料感度に最適な光学部品を有しております。 また、ハイパワー入力による高露光量、高均一度照射も特徴です。 小型から大型まで、お客様のワークに合った装置をご提案します。 |
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プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→オート機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
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マスクアライナー「UX-1シリーズ」 | 本製品は生産終了となりました。
マスクアライナー「UX-1シリーズ」生産終了のご案内(396KB）
代替品はこちら→マニュアル機 ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。 |
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紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」 | 紫外線照射装置として、LSI製造ラインで採用されている紫外線ホトレジスト硬化です。 超高圧UVランプ、エキシマランプ を搭載し、ドライエッチング時の耐プラズマ性の向上、イオン注入時のレジスト脱ガスおよび焼きしめ、電荷の消去、ストレスイレース、Low-kキュアなど、さまざまな用途で活用されています。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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チャージイレース装置 | 強力な深紫外線照射により、EPROM、フラッシュメモリなどの電荷を除去。各種プラズマプロセスで問題となるチャージングを消去します。 本製品は2023年9月末日をもって新規装置の受注を終了させていただきます。 2035年9月末までは、ランプユニット、ホットプレート等の主要保守・消耗部品につきましては、提供に問題ない体制を準備する予定です。 詳細はこちらをご覧ください |
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スポットUV照射装置 「スポットキュアシリーズ」 | 約30年間にわたり培ってきた光システム技術を活かした「スポットキュア シリーズ」は、使いやすさを追求し、さらに環境にも配慮。ラインやワークの条件に合わせ、レンズやユニットなどもオプションも豊富に取り揃えています。 取扱説明書やトラブルシューティング、外観図CADデータはこちら （会員登録が必要です） |
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Deep UVランプ | キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。 230nm～320nm付近の中紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。 |
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