이 마스크 정렬기는 우시오가 수년에 걸쳐 개발해온 광원과 광학 기술을 사용하고 있습니다. 이 노출 기기는 ihg 선을 지원할 뿐만 아니라 깊은 UV 범위 또한 지원합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다.
고해상도
1 um (진공 강한 접촉) 의 가장 높은 선-공간 해상도를 실현했습니다. 근접 리소그래피는 20 um 의 갭에서 3 um의 높은 선-공간 해상도를 실현했습니다. 선 폭의 안정성은 높은 단계의 평탄성과 갭 안정성으로 또한 뛰어납니다. 우리는 소재에 따른 각각의 리소그래피에 최적의 해상도를 실현하기 위한 최고의 광학 시스템을 제안할 수 있습니다.
높은 오버레이 정확성 실현
오버레이 정밀도: 표면 정렬시 ±1 um, 후면 정렬시 ±1.5 um. 다양한 기판과 정렬 마크를 충족하기 위한 광학 정렬 광 및 이미지 처리 소프트웨어 기술로 높은 정밀도의 등록 정확성을 얻을 수 있습니다.
LCD 감광 소재 평가 시스템
우시오의 광원 기술을 활용하여 우리의 LCD 컬러 필터 노출 광원은 큰 시장 점유율을 확보했습니다.
우리는 이 기술을 이용해 LCD 감광 소재의 선적 검사를 위한 단순한 리소그래피 시스템을 제안할 수 있습니다.
MEMS
수정 발진기
SAW 필터
RF 기기
센서
잉크젯 헤드
다이오드
IGBT
전력 반도체
사이리스터
MOS-FETs
LEDs
파워 앰프
MMICs
BAW 필터
가속 센서
유도자
수동 소자
태양전지
R&D
소재 분석
연구 분석 등
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