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제품명 제품개요 주용도 및 분야 파장
172nm Excimer System 172nm Excimer System 12인치 웨이퍼 반도체용으로, 엑시머 광조사기를 탑재한 단동(Stand-Alone)형 장치입니다. FOUP를 구비하여, 레시피(recipe) 설정에 따라 자동으로 엑시머광을 웨이퍼에 조사함으로써 Ashing 프로세스등을 시행합니다.
엑시머 램프/엑시머 조사 유닛 엑시머 램프/엑시머 조사 유닛 엑시머 VUV 광은 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 함유한 램프에 의해 생성된 아주 높은 에너지의 빛입니다. 외부에서 높은 에너지의 전자를 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 합유한 램프에 적용하면 강렬한 플라즈마 방출을 생성합니다(유전체 장벽 방전). 이 플라즈마는 높은 에너지의 전자를 함유하며 즉시 소멸되는 것이 특징입니다. 이 플라즈마 방출은 즉시 방출 가스(희가스) 의 원자를 엑시머(Xe) 상태로 여기 시킵니다(높은 에너지의 궤도 원자가 엑시머 여기 분자를 형성). 엑시머-특정 스펙트럼은 원자기 엑시머 상태에서 원래의 상태 (기저 상태) 로 돌아올 때 방출됩니다. 이 방출을 VUV 광이라고 부릅니다.
초고압 UV 램프(~500W) 초고압 UV 램프(~500W) 우시오의 초고압 UV 램프는 3개의 자외선 파장 (436, 405, 365nm) 을 효율적으로 활용하도록 개발되었으며 안정정인 조사와 긴 수명의 고강도 광원입니다. 램프의 아크 사이즈가 점 광원의 아크 사이즈에 가까워 광학시스템에 의해 빛을 쉽게 모으고 확산시킬 수 있으며 균일한 조도 분포를 쉽게 얻을 수 있습니다.
딮 UV 램프 딮 UV 램프 크세논 램프를 기반으로 하는 수은 증기 충전 고강도 점 광원 램프입니다. 230~320 nm의 파장 범위의 원자외선 조사가 특징이며 짧은 파장의 광화학 반응, UV 경화 및 리소그래피에 사용됩니다.
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