大幅な小型化を実現した「大気圧プラズマ照射装置」の販売を開始

表面処理プロセスへのソリューション提供力を強化

ウシオ電機株式会社（本社：東京都、代表取締役社長 内藤 宏治、以下 ウシオ）は、空冷方式の採用により大幅な小型化を実現した「大気圧プラズマ照射装置」の販売を、2021年12月から開始いたします。

本製品は、弊社独自のDBD方式※1により低消費電力ながら、ポリプロピレン（PP）や液晶ポリマー（LCP）などの樹脂系基板・ガラスなどの無機基材に対して高い洗浄・表面改質効果が得られます。また、プロセスガスのみで冷却することが可能であり、大幅な小型化・軽量化を実現。設置レイアウトの自由度向上や既存設備への追加搭載を容易にしました。




 
今後、ウシオは洗浄・表面改質プロセスにおいて従来のエキシマ光照射装置に加え、新たにこの「大気圧プラズマ照射装置」を製品ラインアップすることで、各種材料の表面処理プロセス向けのソリューション提案力の強化を図ります。

なお、本製品は12月15日～17日まで東京ビッグサイトで開催される「Semicon Japan 2021（ブースNo.2038）」で実機とパネル展示をします。

※1 Dielectric Barrier Discharge（誘電体バリア放電）


【製品の特長】
・リモートプラズマ方式で対象物へのダメージを軽減
-放電や熱による基材ダメージを最小化
-様々な種類の基材に対して処理が可能

・ウシオ独自のDBD方式により、低消費電力で高い表面改質効果
-少ない投入電力でも、高い表面改質効果が得られる、独自の特殊構造を開発
-設備の低消費電力化に貢献

・空冷方式/小型軽量
-プロセスガスのみでプラズマヘッドの冷却が可能
-ライン照射タイプで業界最小クラスの小型化（奥行き：50mm×高さ：70mm）を実現
 

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