光で「洗う」

分子レベルの汚れが性能や品質を左右してしまうことがあります。
そのため、ミクロン・ナノレベルの微細加工を行う半導体では、「洗浄」が全工程の1/3を占めると言われるほど。
見えない汚れは、見えない光で落とす。ウシオの光技術なではの洗浄方法です。

Cleaning

Contamination at the molecular level can affect product performance and quality. Consequently, with microfabrication of semiconductors at the micron and nano level, cleaning can comprise up to a third of the overall production process.
Removing invisible contaminants with invisible light:
This is a cleaning process that is possible thanks to USHIO’s optical technology.