投影露光装置「UX-4シリーズ」

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ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。
【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ
マスクダメージフリー

高生産性

3次元露光

厚膜レジスト対応

プロキシミティアライナーのマスク転用可能

MEMS
水晶振動子
SAWフィルタ
RFデバイス
センサー
インジェットヘッド
ダイオード
IGBT
パワー半導体
サイリスタ
MOS-FET
LED
パワーアンプ
MMIC
BAWフィルタ
加速度センサ
インダクター
受動部品
太陽電池
など
水晶振動子
SAWフィルタ
RFデバイス
センサー
インジェットヘッド
ダイオード
IGBT
パワー半導体
サイリスタ
MOS-FET
LED
パワーアンプ
MMIC
BAWフィルタ
加速度センサ
インダクター
受動部品
太陽電池
など
UX-4シリーズ ラインナップ
型式 | UX-4486SC | UX-44101SC | UX-4423SC | UX-4459SC | UX-4440SC | UX-4438SC | UX-4458SC | UX-4477SC |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
マスクサイズ | □5inch | □7inch、□5inch | □9inch、□7inch | |||||
ウェーハサイズ | φ4inch | φ6inch、φ4inch | φ8inch、φ6inch | |||||
解像力 | 7μm L/S | 2μm L/S | 9μm L/S | 6μm L/S | 5μm L/S | 12μm L/S | 6μm L/S | 4μm L/S |
総合重ね合わせ精度 | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S | ±2.0μm L/S | ±1.0mu;m L/S | ±1.0μm L/S | ±1.0μm L/S |
露光波長 | ihg 線 | i線 | ihg 線 | i線 | i線 | ihg 線 | i線 | i線 |
スループット | 120WPH | |||||||
オプション | 裏面アライメント、IRアライメント、マスクライブラリー、特殊ウェーハ対応 |
【輸出に関するご注意】
本製品(又は技術)は、外国為替及び外国貿易法に基づくリスト規制の該当貨物(又は技術)になる場合がありますので、輸出(又は非居住者への技術の提供あるいは 外国において技術の提供をする目的での取引)を行なう場合には、経済産業大臣の 輸出許可(又は役務取引許可)が必要となる場合があります。必ず事前に弊社へご確認下さい。
型式一覧

搭載光源
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