SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography

High-brightness LDP source

Masataka Mamizuka, Teruaki Kawajiri, Koji Suzuki, Yusuke Teramoto, Takahiro Shirai, Shunichi Morimoto, Hidenori Watanabe, Akihisa Nagano, Daisuke Yajima, Noritaka Ashizawa, Kazuya Aoki, Yoshihiko Sato
Ushio Inc.

ウシオは最先端の半導体プロセスで使用されるEUVマスク向けのアクティニック検査光源としてLDP方式のEUV光源を供給しており、フィールドにおけるAvailabilityは90%を超える信頼性の高い光源として実績がある。さらなるAvailability改善を目指した設計改善の結果、社内評価においては800h以上の稼働を実現した。また、検査に悪い影響を与える可能性のある不要なEUV光を低減させる取り組みも進めており、トリガーレーザーと回転電極の最適化によりプラズマ形状を変化させることで、輝度を大きく低下させることなく、検査に不要なEUV光を低減させることに成功した。

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掲載誌：ライトエッジ2024

主に2023年度の発表物を収集・掲載しました。

（2024年01月）

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