UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの光により、数百μsec~数十msecの点灯時間で、基板・材料の表面へ非接触・瞬間加熱を実現。
Si/SiCウェーハ、ガラス、プラスチックフィルム、フレキシブル基板など多様な研究開発から生産(製造)ライン用途まで適用が可能です。
0.4ms / 0.8ms
1ms~30ms
ハロゲンランプヒータとは、ハロゲンランプの赤外域の光を、効率よく取り出すために開発された加熱源で、投入電力の85%以上が熱に変換され、非常に高効率なエネルギー源です。
ハロゲンランプヒータによる加熱は、フレキシビリティとコントロール性に富み、ほかの熱源にない優れた特徴を有し、半導体・LCD等の電子デバイス製造プロセス、自動車部品加熱、CFRP等の樹脂素材加熱など、さまざまな産業分野にてウシオの熱処理システムが適用されています。