エキシマ｜紫外線（UV）/エキシマ/大気圧プラズマ照射装置

エキシマ照射装置高エネルギーのエキシマ光により、短時間でダメージレスな洗浄・改質を実現

エキシマ（VUV）光により、ガラス、基板からフィルム、シートなどの表面を化学的に洗浄、改質することができます。また、水銀不使用のランプのため環境へも優しい工法です。
実験、テスト用設備から最先端の生産設備まで幅広くサポートいたします。

特長
用途例
オプション
よくあるご質問

表面処理用エキシマ照射装置のご紹介
1.さまざまな基材、基板の表面への洗浄・改質の処理が可能
エキシマ（VUV）光により、コーティングや接着前の有機物洗浄、有機物除去、基材の親水化、またオゾンによる酸化などの処理が可能です。対象物としてはプラスチック樹脂、基板、ガラスをはじめ、フィルム、シート等への実績がございます。
2.高い光エネルギーにより高精度、短時間での有機物除去が可能
エキシマ（VUV）光により、高濃度の活性酸素種や各種ラジカルを短時間で生成することができます。同時に基材上の有機物の化学結合を切断し有機物の酸化分解、揮発を促すことで、基材へのダメージを最小限に洗浄・改質をすることができます。
3.低温処理が可能
水銀不使用、誘電体バリア放電励起方式のランプのため発光時のランプ温度が低いです。また172nmの単一波長のため、温度上昇に寄与する長波長も少なく基材への熱の影響を最小限に抑えることができます。
4.瞬時点灯が可能
誘電体バリア放電励起方式のランプのため、処理が必要なタイミングで点灯することができます。環境負荷の低減、お客様のランニングコスト削減へ貢献します。
5.ご要求仕様に応じて多彩なラインアップから提案
実験・テスト用の製品から、少量生産向け、製造ライン上に設置可能な製品、フィルム向け装置など、さまざまな生産設備へ対応した製品を取り揃えております。1993年の製品化以来、高品質かつ高照度・高露光量・長寿命のエキシマ（VUV）ランプ、装置の技術開発に取り組んでまいりました。
累計販売台数6,000台（※2022年現在）の確かな技術をご提案、ご提供いたします。

ヒータステージ
オゾンフィルタユニット

酸素濃度モニタ
環境オゾンセンサ
照度計

遮光/保護メガネの着用は必要ですか
はい、遮光/保護メガネの着用を推奨します。
172nmの光は大気中で急激に減衰しますが、長波長側の光も172nm強度の1/100程度出ています。
低照度であればほぼ影響はありませんが、高照度/長時間使用などを想定した場合、
遮光/保護メガネをご使用頂くことをお勧め致します。
N2のユーティリティは必須ですか
必須のモデル、あると効率が良くなるモデル、不要のモデルがあります。
ご使用環境/条件、処理速度などをご連絡頂けましたら、
弊社より最適な製品の提案をさせて頂きます。
オゾン排気はどのように行ったらよいでしょうか
ドラフターの中でご使用頂く、処理空間をダクトで局所排気する、などが一般的な手法です。
ランプハウス/処理空間のパージガスも同様に排気が必要となります。
安全に関わる仕様のため、詳細は設置に関わる注意事項をご確認いただき弊社営業担当へご相談下さい。
テスト照射（実験）、デモ機貸し出しは可能ですか
80㎜×50㎜～1000㎜×1000㎜までのサイズでしたら、照射ができます。
弊社御殿場事業所、または播磨事業所にお越しいただいてのテスト照射実験、お預かり実験を承っております。照射後のSEM、XPS、FT-IR分析もご相談に応じて可能です。
お貸出し可能なデモ機もございますので、お気軽にお問い合わせください。
大気雰囲気中でも洗浄効果は得られますか
大気中でも洗浄効果を得ることは可能です。
しかし、ランプから照射物までの距離を取りすぎると、光が到達せずに効果が落ちてしまいます。
照射実験の際などは、照射距離の設定にご注意ください（推奨：2～4mm程度）
雰囲気を制御することで、照射距離を伸ばす/立体物への照射も可能です。
最適な雰囲気、照射距離はどれくらいですか？
大気雰囲気の場合は2～4mm程度を推奨します。
処理雰囲気中の酸素濃度を変える、照射距離を伸ばすなどの場合、
最適なパラメータを見つけることが必要です。
ご参考までにガラス基板の接触角変化についてのパラメータを掲載します。
（縦軸：照射後の接触角/横軸：照射時の酸素濃度）