多目的均一照射ユニット「Deep UV マルチライト」
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Deep UVマルチライトは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm～330nmのDeep UV領域に最適化した光源ユニットです。
リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。
均一・平行光源
リソグラフィーにも適用可能な光学基本性能応用
広帯域波長
230nm～330nmの短波長域から365nm、405nm、436nmなどの代表的な紫外線輝線スペクトルまで網羅。
テーブルトップサイズのコンパクト設計
卓上での研究開発用途から量産用露光機搭載まで可能な製品サイズ。
高輝度ショートアークUV光源
均一、平行光に最適な自社製高輝度ショートアーク型UVランプを搭載。微細パターニングを実現します。
高照度化・大面積対応
量産向けSiウェーハ用露光光源ユニットや大型LCDカラーフィルター露光光源ユニットの設計・製作実績を生かし、露光エリア拡大・露光面照射強度アップを目的としたランプハウス設計も可能です。
光源は最大10kwまでのバリエーションからご相談頂けます。
光源は最大10kwまでのバリエーションからご相談頂けます。
表面改質パターニングによる無電解銅メッキパターン
樹脂フィルム等にフォトマスクを介して親水化領域を選択的に作成。親水化領域にのみメッキシード層を吸着させた後、 無電解銅メッキパターンを形成。フォトレジストパターニングを介さずに導体形成が出来ます。
感光性錯体パターニングによる無電解銅メッキパターン
Deep UV波長領域に吸収のある感光性錯体をシード層とした無電解銅メッキパターンの例。
（データ提供協力：関東学院大学 材料・表面工学研究所様/株式会社JCU様）
（データ提供協力：関東学院大学 材料・表面工学研究所様/株式会社JCU様）
