沿革

1964-

ウシオ電機株式会社 設立
平均年齢23歳 268名の社員たちが
信じたのは「光の可能性」でした

1964

ウシオ電機株式会社設立

照明用クセノンロングアークランプ

コンパクトなランプから発せられる高演出な光が国内外で広く評判に

照明用クセノンショートアークランプ

世界初のクセノンショートアークランプによる大型屋外広告照明(京王デパート屋上)

1966

ハロゲンランプ

日本で初めてハロゲンランプを開発

映写機用水平点灯方式クセノンショートアークランプ

ランプを縦から横にすることで光の効率がUP。以後、水平点灯方式は今日の主流に(写真は当時の水平点灯型クセノン映写機:写真提供 映機工業)

ソーラシミュレーター

ウシオのソーラシミュレーター第一号を東大宇宙航空研究所に納品

1967

アメリカにUshio America, Inc.(ランプの販売)を設立

普通紙複写機用ハロゲンランプ

複写機用ハロゲンランプ(原稿読み取り用/トナー定着用)

1968

横浜市に生産技研横浜事業所を新設

IC露光装置「ユニマスク」

コンタクト方式が主流の当時、プロジェクション方式を世界で初めて実用化。現在のウシオの露光装置「UXシリーズ」の原点

1969

ソーラーシミュレーター用水冷式クセノンショートアークランプ

当時の世界最大出力

自動車フォグランプ用ハロゲンランプ

PICK UP

ウシオ電機株式会社設立

設立当時、創業者の牛尾治朗は33歳、社員の平均年齢が23歳と若い集団での船出でした。光の用途のほとんどが「あかり」しかなかった時代に、ウシオは光をあかりとしてだけではなく、「エネルギー」として使うことに着目し、以来、「光の専門メーカー」として、多彩な光を提供しています。

1970-

高度経済成長期を迎えた日本
技術や文化の急速な変化と共に
ウシオの光技術の躍進が始まりました

1970

東京証券取引所市場第2部上場

姫路市に播磨事業所を新設

サーチライト

大阪万博のシンボル「太陽の塔」に使用

1971

本社を東京都千代田区大手町に移転

レーザ核融合用大出力クセノンフラッシュランプ

ハロゲン標準電球

CIE(国際照明学会)大会で認定。ウシオの光が世界標準に

1972

多灯電光表示管「U-パナプレックス」

今日の液晶ディスプレイなどのはしりともいえる、光による情報表示システム

集光式紫外線照射装置「スポットキュア」

微小濃度測定装置/微小寸法測定装置

1973

ハロゲン集魚灯「イカライト」

従来比で寿命5倍、明るさ2倍、サイズは半分。ウシオの漁火はアジア各国に拡がった

1974

大阪証券取引所市場第2部上場

紫外線水殺菌装置

低圧UVランプを内蔵した紫外線水殺菌装置

紫外線硬化・乾燥装置「ユニキュアシステム」

1975

人工衛星試験用大型ソーラシミュレータ光源部

水冷式クセノンショートアークランプを19灯搭載し、宇宙開発事業団(現JAXA)に納品。この後、政府のサンシャイン計画にも参画

1977

超LSI焼付用Deep UVランプ

それまで数分かかっていたウェーハの焼付けをわずか数十秒に短縮

PICK UP

人工衛星試験用大型ソーラーシミュレーター光源ユニット

水冷式クセノンショートアークランプを19灯搭載し、宇宙開発事業団(現JAXA)に納品。この後、政府のサンシャイン計画にも参画。大出力クセノンショートアークランプの開発、光学系設計技術、照明系設計技術によってウシオは、世界で唯一のソーラーシミュレーター向け光源ユニットメーカーの地位を確立しました。また、この開発で培われた様々な技術が今日の光学関連装置の基礎となっています。

1980-

産業界でもいち早く海外へ進出
ウシオの光が国境を越え、
世界に拡がっていきました

1980

東京および大阪証券取引所市場第1部上場(2010年1月、大阪証券取引所上場廃止)

1981

株式会社ユーテック(現 ウシオライティング株式会社、ランプ及び産業機械の販売)を設立

メタルハライド緑色集魚灯「グリーンビーム」

1982

半導体用ハロゲンヒータ

エピタキシャル結晶膜形成用として開発。光ならではのクリーン、均一、素早いエネルギー制御が高い評価を得た

紫外線強力殺菌装置「ユニライザー」

アークイメージファーネス

1983

兵庫ウシオ電機株式会社(現 ウシオライティング株式会社、ランプの製造販売)を設立

光洗浄装置「フォトレックス」

半導体や水晶振動子の表面に付着した分子レベルの微細な有機化合物(汚れ)を、低圧UVランプの紫外線により除去(ドライクリーニング)する世界初の光洗浄装置。この技術は、のちのエキシマランプによる精密光洗浄装置の基礎に

1984

半導体露光用UVフラッシュランプ

液晶バックライト用小型蛍光ランプ
イメージリーダ用小型蛍光ランプ

メタルハライド白色集魚灯

紫外線照射装置「ハンディキュア」

UVインキ・塗料向けのコンパクトなハンディタイプのUV硬化装置。手もちで照射できるため、多角的な立体照射が可能に

1985

オランダにUshio Europe B.V.(ランプの販売)を設立

紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」

エッチング前処理用のレジスト硬化装置で、超LSIの製造ラインに組み込まれた、ウシオ初の光の装置。強力な遠紫外線(DUV)によって、レジストの変形やダレを防ぎ、短時間で微細パターンを高精度に保つことができる。

1986

株式会社ユーテックを株式会社ウシオユーテックに商号変更

香港にUshio Hong Kong, Ltd.(光学装置の製造販売)を設立

ユニキュア・コールドUVシリーズ

集光式紫外線照射装置「新型スポットキュア」

1972年開発製品の集光性を高めた新型。電子部品・光学部品の精密接着を、分から秒レベルに短縮し、精密機器の組立工程の効率向上に貢献。

積算光量計「ユニメーター」

サファイアランプ

1987

アメリカにUshio Oregon, Inc.(現Ushio America, Inc.、ランプの製造販売)を設立

台湾にUshio Taiwan, Inc.(ランプの製造販売)を設立

多目的均一照射装置「マルチライト」

250W超高圧UVランプを使った多目的の光源ユニット。高性能インテグレーター(照度の均一性を得るための光学ユニット)搭載で、高レベルの照度均一度・中心平行度を実現。後に開発される露光装置に搭載されるなど、光の装置の基幹エンジンとなる。

照明用赤外線反射膜付ハロゲンランプ

1988

筑波ウシオ電機株式会社設立(2012年4月清算)

御殿場市に御殿場事業所を新設

フランスにUshio France S.A.R.L.(ランプの販売)を設立

TAB露光装置

フィルム基板に高精細な回路パターンを焼き付ける装置。基板がシート状になることで、ノートパソコンや携帯電話、液晶ディスプレイなどがより小さく、薄く、軽く、しかも折り曲げが可能に

人工日焼け装置「サンタンライト・サニー」

光触媒型空気清浄機「ベルフロー」

全自動イカ釣機

遠赤外線ハロゲンヒーター「ブラックライト」

特殊セラミックをハロゲンランプ表面にコーティングし、3から5㎛の遠赤外線を出力ピークにもつ、ヒータ用光源。暖房・乾燥・調理をはじめ、食品加工・健康医療分野に展開。

プラズマ重合膜レプリカ作成装置

1989

シンガポール事務所をUshio Singapore Pte. Ltd.(現 Ushio Asia Pacific Pte. Ltd.ランプの販売)として現地法人化

小型クセノンサーチライト「発見電」

ウェハー周辺露光装置

紫外線でウェハー周辺の不要なレジストを高精度かつシャープに除去。半導体の生産性の向上、工程のクリーン化に大きく寄与

パーティクル検査装置

PICK UP

産業界の中でも早い海外進出

プラザ合意により円高・ドル安が進んだ80年代、ウシオは生産の国際化が一気にスタートし、香港・アメリカ・オランダ・台湾に次々と新工場を立ち上げました。当時の海外進出は産業界の中でもかなり早い決断でした(写真はウシオオレゴン)。

1990-

光のエネルギー活用が加速し、
エレクトロニクス分野の
技術革新に大きく貢献

1990

ウシオマリーン株式会社(現 ウシオライティング株式会社、漁業用品の販売)を設立

ドイツのBLV Licht- und Vakuumtechnik GmbH(現 Ushio Germany GmbH ランプの製造販売)を買収

クッキング用ヒーターユニット

照明用メタルハライドランプ(シングルエンドタイプ)

高級化の進むデパート・大型ショッピングセンターなど、光量アップをはかる店舗の照明演出用途

小型クセノンサーチライト「U-BEAM」

1991

日本電子技術株式会社(2017年3月清算、産業用電子機器の製造販売)を買収

半導体露光装置用「SUVランプ」(i 線ランプ)

4メガビットから16メガビットへと高集積化が進み、さらに次世代半導体(64メガビット)の開発が進む中、より細かい回路焼付けのため、より短波長の紫外線が求められていた時代。SUVランプは、i線(365ナノメートル)を狭帯域でピークにもち、従来と同じ大きさのICに4倍サイズの回路焼き付けを可能にした。

ウェハー周辺ステップ露光装置

1989年開発のウェハー周辺露光装置にステップ機能を付加。ゴミのもととなるウェハー周辺の不要なレジストを、チップ形状にそって除去し、ウェハーのムダのない利用を可能に

1992

アメリカのChristie Electric Corp.の映写機部門を買収し、Christie, Inc.(現 Christie Digital Systems USA, Inc.、映写機関連機器の製造販売)を設立

ドイツにUshio Deutschland GmbH(現 Ushio Germany GmbH ランプの販売)を設立

1993

誘電体バリア放電エキシマランプ

世界で初めて製品化。当初は液晶業界での光洗浄用途向けに

大面積投影露光装置

マイクロマシニング用として開発。超高圧UVランプと投影露光技術によって、照射面積200ミリ角(従来は70ミリ角)、焦点深度100ミクロン(従来は数10ミクロン)を、初めて実現

光学式微小線幅測定装置

ダイクロハロゲン

ネット模様のスーパーラインカットのミラーを採用し、従来の1.5倍の集光力、約20%の省エネルギー、コンパクト化を実現

1994

エキシマVUV/O₃洗浄装置

ハイテク分野の難題である有機化合物の“汚れ”を除去する光によるファインクリーニング装置であり、水や薬品によるウェット洗浄、また超音波や紫外線(低圧UVランプ)によるドライ洗浄に比べても、十倍以上の洗浄速度と洗浄度、1/3の消費電力、低温処理などを可能に

立体形状作製装置「ユニラピッド」

1995

オランダにUshio International B.V.(持株会社)を設立

マーキング装置「ユニマークSC」

1996

フィリピンにUshio Philippines, Inc.(ランプの製造販売)を設立

韓国にUshio Korea, Inc.(ランプの販売)を設立

宇宙空間用ハロゲンランプ

海色海温走査放射計(OCTS)と高性能可視近赤外放射計(AVNIR)のキャリブレーション(校正)用として開発

自動車用青色ハロゲンランプ

液晶リソグラフィ用UVランプ

液晶カラーフィルタ露光用として開発した8kWの超高圧UVランプ。大型化する基板に対応するため。ランプも大出力化が進む。

液晶プロジェクタ用メタルハライドランプ

極間精度0.1ミリメートル、250W。後のプロジェクタ用超高圧UVランプ「NSHランプ」の先駆け

1997

イギリスにUshio U.K., Ltd.(ランプの販売)を設立

株式会社ウシオ総合技術研究所(2008年2月清算、光源および光学装置の研究開発)を設立

分光放射照度計「スペクトロ・ラディオメーター」

外部電極式希ガス蛍光ランプ

OA機器の読み取り用光源。従来の小型蛍光ランプに比べ、2倍以上の高照度と高安定性を実現し、次世代型デジタル複写機の高速化にも大きく寄与

1998

液晶プロジェクタ用「NSHランプ」

DLP(デジタル・ライト・プロセシング)方式プロジェクタの大画面化や画質向上に対応。超高圧UVランプをベースに開発した高輝度光源

1999

台湾にTaiwan Ushio Lighting, Inc.(2015年3月清算、ランプの製造販売)を設立

カナダのElectrohome Ltd.の映像機器事業部門を買収し、Christie Systems, Inc.(現Christie Digital Systems, Inc.、持株会社)、Christie Digital Systems, Inc.(現Christie Digital Systems Canada Inc.、デジタル映像機器の製造販売)、Christie Digital Systems USA, Inc.(デジタル映像機器の販売)をそれぞれ設立

プリント基板用ステップ&リピート投影露光装置「UX-5」

高い解像度、深い焦点深度を実現する投影レンズ技術に加え、高精度の重ね合わせ、位置あわせのズレを解消するアライメントの新技術などにより、大面積の基板上を、ワンショット毎に繰り返し露光

デジタルシネマ映写機

米国初のデジタル映写機による上映作品は「スターウォーズ」。日本でのデジタル映写機による上映は2001年

PICK UP

エレクトロニクス分野の技術革新を支える光

アナログからデジタルへと大きな技術革新が起こった90年代。「より小さく、より薄く、より微細」な技術が求められる中、強力で高効率かつクリーンなエネルギーとして、ウシオの「光」が技術革新のボトルネックを数多く解決してきました。

2000-

あかりとしての光は多様化・大規模化へ
シネマをはじめとした
ビジュアルイメージングの進化には
いつもウシオの「光」が関わっています

2000

ウシオマリーン株式会社を株式会社ウシオユーテックに吸収合併

ギガフォトン株式会社(リソグラフィー用エキシマレーザ等の開発製造販売)を設立

2001

ChristieグループをそれぞれChristie Digital Systems, Inc.、Christie Digital Systems USA, Inc.、Christie Digital Systems Canada Inc.に再編

香港にUshio U-Tech(Hong Kong)Co., Ltd.(商号変更によりUshio Lighting(Hong Kong)Co., Ltd.、2010年3月清算、産業機械の販売)を設立

セラミッククセノンランプ(ミラー一体型クセノンランプ)

内視鏡や顕微鏡向けに開発

フラッシュランプアニール

1/1,000秒で表層のみを瞬間加熱。LSI基板に微細トランジスタを接合

2002

ステップ&リピート投影露光装置「UX-7」

2003

アメリカのEvent Audio Visual Group, Inc.(映像機器のレンタル事業)を買収

中国にUshio Shanghai, Inc.(ランプの販売)を設立

TAB検査装置

フレキシブルプリント基板(TAB)の回路パターン検査装置。照明された基板のパターンをCCDカメラに取り込み、画像処理によって判定

2004

中国にUshio (Suzhou) Co., Ltd.(ランプの製造販売)を設立

ウシオライティング株式会社と株式会社ウシオユーテックが株式会社ウシオユーテックを存続会社として合併し、ウシオライティング株式会社へ商号変更

Ushio Oregon, Inc.をUshio America, Inc.に吸収合併

中国にChristie Digital Systems (Shanghai), Ltd.(デジタル映像機器の販売)を設立

スプレーコーター

200マイクロメートルの凹凸のある立体面に、切れ目なく、均一にレジストをコーティング

滴下式液晶パネル貼り合わせ用紫外線照射装置(ODF)

光で貼り合わせる装置。従来の「注入方式」を「滴下方式」にすることで、ガラス基板を貼り合わせ液晶を封入する貼り合わせ処理時間を、10時間から、一気に数分に短縮

2005

兵庫ウシオライティング株式会社(ランプの製造 2012年11月清算)を設立

ドイツのXTREME technologies GmbH(2017年12月清算、EUV光源装置の開発製造販売)の持分(50%)を取得

ポーランドのNatrium S.A.(現Ushio Poland Sp. zo. o.、ランプの製造)を買収

マスク/ペリクル異物検査装置

露光装置用レチクルのレチクル上面、およびペリクル下面に付着した異物を短時間で自動検査

2006

赤外線治療器「セラビームVR630」

赤外線領域の波長630nmと670nmにエネルギーのピークをもつ専用の「メタルハライドランプ」を搭載

2007

アメリカのVista Controls Systems, Corp.(2015年1月Christie Digital Systems USA, Inc.に統合、映像情報処理システムの製造販売)を買収

2008

株式会社エピテックス(現ウシオ電機株式会社、LEDの製造販売)を買収

中国にUshio Shenzhen, Inc.(ランプの販売)を設立

XTREME technologies GmbHの持分を100%取得し、完全子会社化

紫外線治療器「セラビーム®UV308」

エキシマライトにより、従来よりも効果の高い308nmの紫外線を、乾癬、白斑、アトピー性皮膚炎などの患部に照射して処置する紫外線皮膚治療器。 紫外線皮膚治療器としては世界で初めて、エキシマフィルターを搭載し、健康な皮膚へのリスクを低減し患部に対し効果的かつ、安全に照射治療を行うことが可能

マルチフィラメント・ヒータ

温度制御が可能なハロゲンヒータランプで、 半導体や太陽電池製造用途に開発。温度が下がりやすい周辺部を独立フィラメントにより温度を高めに設定するなど、必要な光を必要な場所に必要な量だけ最適に加熱することが可能

2009

アメリカのNecsel Intellectual Property, Inc.(半導体レーザの開発製造販売)を買収

アメリカのLuminetx Corporation(Christie Medical Holdings, Inc.、医療機器の製造販売、2019年6月売却)を買収

LED搭載スポットUV照射装置「SPL-1」

1972年から続く集光式紫外線照射装置「スポットキュア」ではじめてLED光源を搭載。

PICK UP

生活を変える、光と映像

フィルム時代からシネマ業界を支えてきたウシオの光は、2000年代に入ってからもデジタル化、そして2D、3D、さらには4Dへと進化するシネマ業界に光で貢献。シネマコンプレックスの普及や市場規模の拡大につながりました。

2010-

私たちの生活に身近な電子機器も
ウシオの「光」が支えています

2010

中国にChristie Digital Systems(Shenzhen)Co., Ltd.(デジタル映像機器の製造)を設立

アメリカのNecsel Intellectual Property, Inc.(半導体レーザの開発製造販売)の全株式を取得し完全子会社化

一括投影露光装置「UX-4」シリーズ

大面積を一括処理可能な投影レンズを搭載。高輝度LED製造用「UX4-LEDs」および、パワー半導体製造向け「UX4-ECO」を2010年に、3D LSIデバイスの製造向け「UX4-3Di」および、MEMS製造用「UX4-MEMS」を2011年に発表

半導体パッケージ基板用ステッパ「UX5」シリーズ

1999年開発のUX-5を、現行世代の要求性能までグレードアップ。しかもレンズやアライメント、光源、搬送など主要な機能をモジュール化した新設計により、将来、必要な機能だけをアップグレード・カスタマイズすることが可能

2011

ギガフォトン株式会社の当社保有全株式を株式会社小松製作所へ譲渡

OA機器原稿読み取り用LEDモジュール

モジュール1本あたりわずか1~2個のLEDチップ搭載で、従来の希ガス蛍光ランプと同等の明るさを実現。しかも消費電力は75%削減

UV硬化型インクジェットプリンタ用光源「UV-LEDモジュール」

微小なインクを非接触かつダイレクトに塗布し、紫外線によりインクを速乾させるUVインクジェットプリンタ対応。瞬時のON-OFF制御による電力ロスや生産性低下を防ぐ上、LED特有の長寿命、水銀不使用による環境配慮が特長

紫外線薄型照度計「UIT-θ365」

世界で最も薄い4.9mmの紫外線薄型照度計。煩雑な配線の取り回しが不要なワイヤレスタイプで、高さ制限や照射距離間などの照射条件に因らず、実際の製造時と同一条件下での正確なUV照度測定・管理が可能となり、さまざまなUVプロセスにおける品質向上を実現

2012

ブラジルにChristie Digital Systems South America Ltda.(デジタル映像機器の販売)を設立

株式会社アドテックエンジニアリングの株式を公開買い付けにより追加取得し、連結子会社化

Ushio Singapore Pte. Ltd.をUshio Asia Pacific Pte. Ltd.に商号変更

アメリカにUshio America Holdings, Inc.(北米持株会社)を設立

中国にUshio (Shaoguan) Co., Ltd.(ランプの製造)を設立

オーストラリアのVR Solutions Pty. Ltd.およびその子会社VR Solutions India Pvt. Ltd.(現Christie Digital Systems Australia Pty. Ltd.および現Christie Digital Systems (India) Pvt. Ltd.、デジタル映像機器の販売)を買収

2.5D/3D積層パッケージング向け大面積ステッパシステム「UX7」シリーズ

2002年開発のUX-7を、2.5D積層構造の最先端半導体デバイス製造向けにリニューアル。φ200mm、φ300mmウェハに対応し、78×66mmの大ショットサイズを持つ大口径の投影露光レンズを搭載し、大面積基板と高スループットによりインターポーザの製造コストを大幅に削減

エキシマ光照射器「Min-Excimer」

卓上でのエキシマ光実験を可能にしたA5サイズのエキシマ光照射器。簡易かつ柔軟に親水化や改質などのエキシマ光実験を可能に

2013

タイにUshio Asia Pacific (Thailand) Ltd.(ランプの販売)を設立

メキシコにChristie Digital Systems Mexico, S. DE R.L. DE C.V.(デジタル映像機器の販売)を設立

血液分析装置「ポイントリーダー」

日本初、血清フェリチンの定量分析をイムノクロマト法で実現。専用試薬も自社で販売

インプラント用紫外線照射装置「TheraBeam SuperOsseo」

2014

カナダのArsenal Media Inc.(現Christie Digital Systems Canada Inc.、デジタルコンテンツの企画制作)を買収

ウシオオプトセミコンダクター株式会社(現ウシオ電機株式会社、LED及び半導体レーザーの製造販売)を設立

株式会社アドテックエンジニアリングの株式を株式交換により追加取得し、完全子会社化

2015

ドイツのCoolux GmbH(現Christie Digital Systems Germany GmbH、デジタルコンテンツ制御機器の製造販売)を買収

マックスレイ株式会社(現ウシオライティング株式会社、照明器具の販売)を買収

株式会社エピテックスの商号をウシオエピテックス株式会社へと変更

アメリカのAllure Global Solutions, Inc.(2018年11月売却、デジタルサイネージ関連のソリューション提供)を買収

スポットUV照射装置「スポットキュア® SP-11」

従来機種と比べて、照度3倍でUV接着工程時間を1/3に短縮

パーソナル吸光度計「Picoscope®」

スマートフォンやタブレット端末と連携し、たんぱく質や重金属、環境ホルモン、DNAなどの濃度測定や検出ができるコンパクトなパーソナル吸光度計

2016

アメリカのAmerican Green Technology, Inc.(2018年12月連結除外、ランプの販売)を買収

アメリカのPD-LD, Inc.(現Necsel Intellectual Property, Inc.、半導体レーザーの開発製造販売)を買収

本社を東京都千代田区丸の内に移転

株式会社サンソリット(メディカルスキンケア製品の販売)を買収

ウシオオプトセミコンダクター株式会社とウシオエピテックス株式会社が、ウシオオプトセミコンダクター株式会社を存続会社として事業統合

中国にUshio Medical Technology (Suzhou) Co., Ltd.(先端医療技術およびコア部品の研究開発生産販売および周辺機器の研究開発生産販売)を設立

紫外線皮膚治療器「セラビーム®UV308 mini」

乾癬、白斑、アトピー性皮膚炎などの患部に308nmの紫外線、エキシマライトを照射して処置する紫外線治療器「セラビーム UV308」のハンディタイプ。

シートビームレーザー

世界で初めて流体解析において、レーザーダイオード(LD)からの光を直接利用した可視化照明用シートビームレーザー

2017

ウシオエンターテインメントホールディングス株式会社(日本におけるエンターテインメント関連グループ企業の統括事業)を設立

プロジェクター用 赤色高出力レーザーダイオード

活性層構造や発光領域の最適化、高い放熱性能をもつパッケージの採用により、高温域でも高出力動作、長寿命を実現

高出力近赤外線LED(SWIR LED)

近赤外線領域(Short Wavelength Infrared, 以下、SWIR)のLEDにおいて、従来比 約1.5倍の高出力化に成功

2018

マックスレイ株式会社をウシオライティング株式会社に吸収合併

オフセット枚葉印刷機用UV-LED乾燥装置

印刷用UV-LED乾燥装置「UniJetシリーズ(ユニジェット)」の新ラインナップ。照射距離が離れていても高照度・高積算光量を維持

セラビーム® UV308 Slim(スリム)

「セラビーム® UV308」(2008年発売)シリーズの新機種

半導体製造プロセス向けエキシマ光照射ユニット

従来比5倍の高照度かつ体積比で60%のダウンサイジングを実現

2019

輪転印刷機用UV-LED乾燥装置

ウッド灯(透光照明器)「セラビーム®Woody」

量産プロセス向けEUVリソグラフィマスク検査用EUV光源

次世代半導体製造工程の量産プロセスに必要な、高輝度EUV光を使用した“Actinic”なEUVリソグラフィ用マスク検査が可能に

659nm 赤色高出力レーザーダイオード

世界最高のCW光出力1.2Wを実現。光線療法機器などの小型化が可能に

LEDスポットUV照射装置「スポットキュア SP-LED-3」

業界最高レベルの高照度を実現

PICK UP

スマートデバイスを支えるウシオの光

私たちの生活に身近なスマートデバイス(スマートフォンやタブレット端末)。これらの製造プロセスに欠かせないのがウシオの光源や光学装置です。特に液晶分子をキレイに並べるウシオの「光配向装置」の登場により、「薄い・キレイ・エコ(低消費電力)」な高精細ディスプレーの性能向上が図られました。

2020-

「便利・快適」、「感動・共有」、「安心・安全」をキーワードに
光のソリューションカンパニーを目指します

2020

ウシオオプトセミコンダクター株式会社をウシオ電機株式会社に吸収合併

660nm帯シングルモードレーザーダイオード

世界最高となるCW光出力200mWを達成

ブロード波長照射装置「SPIR」

赤外線(IR)から紫外線(UV)までの幅広い波長(300~1000nm)の照射で電子部品接着時の硬化時間短縮を実現

Care222® 抗ウイルス・除菌用UV光源モジュール

有人環境でも使用できる抗ウイルス・除菌技術「Care222®」のコアとなるUV光源モジュール。ウシオ独自の光学フィルタを組み合わせ人体に悪影響を及ぼす波長をカット

小型エキシマ照射装置

自動車部品やスマートフォン製造プロセスにおける接着・封止工程の前処理用。特別な付帯設備なしで既存の製造ラインにそのまま設置できるため、最小限のコストで部品の洗浄や接着プロセスの課題を解決し、品質向上や歩留まり改善を実現

2021

ドイツのUshio Deutshcland GmbHとKreisX GmbHをBLV Licht- und Vakuumtechnik GmbHに吸収合併

BLV Licht- und Vakuumtechnik GmbHの商号をUshio Geramany GmbHへと変更

850nm赤外線LEDパッケージ

世界最高出力(19W)と挟角照射を同時実現。照射機器の小型化、コスト低減も可能に

抗ウイルス・除菌用紫外線照射装置「Care222® iシリーズ」

有人環境でも使用可能な抗ウイルス・除菌技術「Care222®」を搭載した紫外線照射装置。一般的な照明器具に近い設置が可能で、従来の紫外線照射装置では出来なかった、有人環境での“環境表面と空気”への紫外線照射を実現

セラビーム® UVA1

国内初、これまで届かなかった「真皮深層」の病変部に届く紫外線を自社製365nm LEDで実現

大気圧プラズマ照射装置

空冷方式の採用により大幅な小型化を実現

2022

抗ウイルス・除菌用紫外線照射装置「Care222® iシリーズ ムービングライトタイプ i-MVT」

ムービングライトタイプにより、1台で複数箇所の除菌が可能に

639nm、200mWシングルモードレーザーダイオード