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제품명 제품개요 주용도 및 분야 파장
가시화용 Sheet Beam Laser 광원 적색 레이저 다이오드 빛을 직접 이용한 새로운 발상의 유체 가시화용 하이 파워 시트 빔 레이저 광원입니다. 고속도 카메라와의 조합으로 유속 공간 분포를 얻을 수 있습니다. ※1。 레이저 다이오드는 빛을 직접 사용하므로, 기존에 사용되었던 DPSS 레이저 ※2에 비해 5W인 하이 파워이면서, 낮은 가격, 낮은 소비 전력을 실현하였습니다. 자동차, 항공기는 물론 건설, 공조 기기, 반도체 제조 장치, 의료 기기 등에 대해서도 공간적 흐름의 이해와 파악은 엔지니어링에서 빼놓을 수 없는 부분이 되었습니다. ※1 분석 방법에 따라 PIV (Particle Image Velocimetry), PTV (Particle Traking Velocimetry)로 불리는 유체 해석에 폭넓게 사용되는 방법입니다. ※2 Diode Pumped Solid State. 파장 변환에 따른 가시광역 레이저입니다.
IRED (InfraraRed Emitting Diodes) 고유의 돔형 칩 형성 기술을 사용해 고출력을 달성했습니다. 정밀 렌즈(패키지) 설계 기술로 우수한 빔 형상을 제공합니다. NC 공작 기계, 로봇, 검안경 및 위치 감지 기기의 광원으로 선택하기에 적합합니다.
저압 아말감 램프 저압 아말감 램프 USHIO는 254nm 단일파장이 나오는 오존프리 램프와 254nm 및 185nm파장이 나오는 오존발생 램프, 두 가지 형태의 저압 아말감 램프를 제공하고 있습니다. 저압 아말감 램프는 표준 저압 램프의 10배가 되는 UV 전력 밀도를 가지고 있고, 기존의 저압 수은 램프보다 더 높은 온도에서 작동이 가능하면서 5배가 되는 수치의 오존을 생성합니다. 아말감 램프의 높은 효율성 때문에 표준 저압 수은 램프와 동일한 성능을 가지면서도, 시스템 내 적은 램프 수 또는 더 적은 와트의 램프 적용이 가능합니다.
중압 램프 중압 램프 USHIO의 중압램프는 0.5KW에서 35KW범위내에서 고객의 NEEDS에 맞춰 제공하고 있습니다. 중압램프는 저압램프 및 아말감램프에 비해 단위길이당 출력이 높아 고출력이 필요하거나 공간의 제약이 있는 현장에 적용이 용이합니다. 또한 다종의 램프베이스를 보유하고 있어 다양한 고객의 요구에 대응이 가능하며 램프의 교체가 용이하도록 설계되어 있습니다.
중압램프용 안정기 중압램프용 안정기 USHIO의 중압램프용 안정기는 중압램프와 함께 독일에서 직접 개발 및 생산한 제품으로 USHIO중압램프에 가장 최적화된 안정기입니다. 혁신적인 설계기술로 컴팩트한 사이즈를 구현하였고, 고주파방식 채택으로 램프의 수명 말기까지 안정적인 점등이 가능합니다. 리니어한 전력제어가 가능하며 1.5KW에서 36KW까지 제품대응이 가능합니다.
TOC제거용 리액터 TOC제거용 리액터 우시오의 TOC제거용 리액터는 반도체, DISPLAY, 바이오 업계에서 사용하는 순수 및 초순수를 제조하는 라인에서 TOC제거 및 이온화하는 용도로 사용됩니다. UKI-P-TOC모델은 광원 및 유체시뮬레이션을 활용한 최적화 설계기술과 우시오의 고출력 아말감램프를 적용하여 고효율, 저전력, 소형화를 실현한 혁신적인 제품입니다.
일반살균용 리액터(관로형) 일반살균용 리액터(관로형) 우시오의 관로형 살균리액터는 일반산업분양에서 원수, 공정수, 제품수, 폐수안에 박테리아나 바이러스등을 살균하는 용도로 사용됩니다. 미국의 EPA규격에 맞춘 조사량 설계와 고출력의 다양한 우시오 광원을 활용하여 종래 제품보다 효율성을 높인 제품입니다.
일반살균용 리액터(수로형) 일반살균용 리액터(수로형) 우시오의 수로형 살균리액터는 하수, 폐수처리장 및 수영장에서 물이 흘러가는 수로에 설치하여 대상수를 살균하는 용도로 사용됩니다. 모듈방식으로 되어 있고, 자동세척장치 기능이 있어 설치 및 유지보수가 편리합니다. 또한 램프 출력조절로 유량변동에 따른 연동운전이 가능하기 때문에 현장에서의 운용관리가 용이합니다.
일반살균용 리액터(탱크형) 일반살균용 리액터(탱크형) 우시오의 탱크형 살균리액터는 지하수, 제품수, 폐수등의 공업용수를 보관하는 탱크에 UV램프를 설치하여 대상수를 살균하고, 탱크내부에서 미생물의 증식을 억제하는 용도로 사용됩니다. 방수처리와 튼튼한 구조로 되어 있어 유량의 변화에도 안전한 운영이 가능하며 탱크외부의 컨트롤박스에서 램프의 ON/OFF 및 출력조절이 가능하여 관리가 용이합니다.
오존제거용 리액터 오존제거용 리액터 우시오의 오존제거용 리액터는 오존을 이용하여 고도정수처리를 하는 정수장에서 잔류오존을 컨트롤하는 용도로 사용됩니다. 수질개선 및 맛, 냄새 물질 제거 효율을 높이는 AOP처리에도 효과적입니다. UKI-P-AOP모델은 수온의 변화에 의한 오존제거효율특성을 반영하여 계절에 관계없이 효율적이고 안정적인 운영을 실현시킨 신뢰성 높은 제품입니다.
전원캐비넷 전원캐비넷 USHIO의 BWTS용 전원캐비넷은 IMO규격 및 환경시험에 맞춰 설계되었으며, 초소형 전자식 전원을 적용함으로써 소형화, 경량화 및 고효율성을 구현하였습니다. 여러 BWTS제조사와의 경험을 바탕으로 선박이라는 특수한 환경(진동, 온도, 염분, 과전압 등)을 고려하여 여러 보호기능들을 적용함으로써 내구성 높은 전원캐비넷을 공급하고 있습니다. 또한, 고객의 요구사양에 맞춘 개발등도 가능합니다.
172nm Excimer System 172nm Excimer System 12인치 웨이퍼 반도체용으로, 엑시머 광조사기를 탑재한 단동(Stand-Alone)형 장치입니다. FOUP를 구비하여, 레시피(recipe) 설정에 따라 자동으로 엑시머광을 웨이퍼에 조사함으로써 Ashing 프로세스등을 시행합니다.
대형 필드 스테퍼 UX-5 시리즈 UX-7 시리즈 대형 필드 스테퍼 UX-5 시리즈 UX-7 시리즈 우시오는 서버와 PC 그리고 스마트폰 및 태블릿 PC와 같은 휴대 기기에 채택된 최신 패키징 어플리케이션용 특수 스테퍼를 제공합니다. 스테퍼는 패널 사이즈와 오랜 시간 동안 광원 및 광학 기술 분야에서의 전문성으로 함양된 우시오의 독점적인 넓은 영역 투영 렌즈 기술에 해당하는 단계를 사용하고 있는 패키지 기판을 위한 것입니다. 고해상도와 최신 패키징 기판에 요구되는 오버레이 정확성을 실현하면서 높은 생산성을 구현합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
광범위 투영 정렬기 UX-4 시리즈 광범위 투영 정렬기 UX-4 시리즈 이 투영 정렬기는 우리의 특별한 넓은 영역 프로젝터 렌즈 기술, 광원 및 우시오가 오랜 동안 개발해온 광학 기술을 사용하고 있습니다. 마스크를 건드리지 않고 8인치 까지 웨이퍼의 원샷 노출을 제공합니다. 큰 피사계 심도는 비평면 웨이퍼의 적절한 노출을 가능하게 해 근접 정렬기로는 불가능했던 높은 생산성과 생산량을 달성합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
접촉/근접 정렬기 UX-3 시리즈 접촉/근접 정렬기 UX-3 시리즈 이 마스크 정렬기는 우시오가 수년에 걸쳐 개발해온 광원과 광학 기술을 사용하고 있습니다. 이 노출 기기는 ihg 선을 지원할 뿐만 아니라 깊은 UV 범위 또한 지원합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다.
수동 타입 접촉/근접 정렬기 UX-1시리즈 수동 타입 접촉/근접 정렬기 UX-1시리즈 이 마스크 정렬기는 우시오가 수년에 걸쳐 개발해온 광원과 광학 기술을 사용하고 있습니다. 이 노출 기기는 ihg 선을 지원할 뿐만 아니라 깊은 UV 범위 또한 지원합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다.
롤투롤 리소그래피 기구 UFX 시리즈 롤투롤 리소그래피 기구 UFX 시리즈 현재 우시오의 플렉서블 기판용 근접/투영 노출 시스템은 800 유닛 이상의 이력 기록을 가지고 있습니다. 고효율 고해상도 노출은 우리의 특별히 개발된 고출력 램프 및 우리의 광학 시스템 기술 분야에서 확립된 명성을 최대로 활용한 프로젝터 렌즈로 달성됩니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용) EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용) 반도체 업계의 고성능, 소형화 및 낮은 전력 소비를 향한 지속적인 발전은 초소형 노출 기술의 개발에 박차를 가하고 있습니다. 13,5mn 파장에서의 EUV (극 자외선) 노출 기술은 가장 촉망 받는 차세대 기술들 중 하나입니다. 우시오는 우리의 EUV Xe DPP 및 EUV Sn LDP 광원 기술에서의 연구 개발 경험을 활용하여 포토 마스크 검사 및 다양한 기술 응용 분야에 대한 EUV 광원 개발을 진행하고 있습니다.
엑시머 램프/엑시머 조사 유닛 엑시머 램프/엑시머 조사 유닛 엑시머 VUV 광은 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 함유한 램프에 의해 생성된 아주 높은 에너지의 빛입니다. 외부에서 높은 에너지의 전자를 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 합유한 램프에 적용하면 강렬한 플라즈마 방출을 생성합니다(유전체 장벽 방전). 이 플라즈마는 높은 에너지의 전자를 함유하며 즉시 소멸되는 것이 특징입니다. 이 플라즈마 방출은 즉시 방출 가스(희가스) 의 원자를 엑시머(Xe) 상태로 여기 시킵니다(높은 에너지의 궤도 원자가 엑시머 여기 분자를 형성). 엑시머-특정 스펙트럼은 원자기 엑시머 상태에서 원래의 상태 (기저 상태) 로 돌아올 때 방출됩니다. 이 방출을 VUV 광이라고 부릅니다.
인쇄 가능 패터닝용 광원 유닛
VUV-Aligner 인쇄 가능 패터닝용 광원 유닛 VUV-Aligner 세계 최초의 VUV 램프 타입 평행 광 정렬기. VUV 조사를 사용한 친수성 패터닝 기술은 인쇄 기술로 얻을 수 있는 것 보다 더 미세한 패턴 형성을 제공하는 반면 기존의 리소그래피에 비교해 상당한 공정의 수를 줄인 고정밀 패턴 형성을 달성했습니다. 유기 트랜지스터, 웨어러블 센서 및 바이오칩과 같은 새로운 응용 분야에 새로운 길을 열었다고 할 수 있습니다. 새롭게 개발된 고강도 평행 펄스 광원 시스템(특허 출원 중) 은 5/5* µm L/S (라인/공간) 해상도를 구현합니다. 넓은 표면 영역에 사용이 가능한지에 대해서는 연락 주십시오. *Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 의 TArF-P6111 레지스트 사용 (필름 두께: 260 nm)
UV 포토레지스트 경화 시스템Unihard UV 포토레지스트 경화 시스템 Unihard 이 자외선 조사 기기는 LSI 제조 라인의 포토레지스트 경화에 사용합니다. 초고압 UV 램프와 엑시머 램프를 장착하여 드라이 에칭 시 플라즈마 내성 향상, 이온 주입 중의 포토레지스트 가스 방출 및 화상 방지, 전하 중화, 스트레스 제거 및 로우k 경화와 같은 다양한 응용 작업에 사용됩니다.
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