ライトエッジ No.36 特集号

ライトエッジ No.36 特集号

光のいま”をキーワードに、「ウシオの新しい取り組み－新市場・新分野を創出する光の先端技術」と題して、ウシオグループが取り組む直近の光技術・光研究を、特集号としてNo.36から3回シリーズでご紹介します。

No.36特集号「第一回」は、最先端の半導体露光用光源「EUV」、新しい応用分野を切り拓く種々の「露光装置」や「光の装置」、可視・紫外・赤外の領域で注目を集める「LED」に関する論文を掲載しました。

（2012年03月）

次世代半導体のEUV光源を用いたリソグラフィ法

EUV露光用LDP光源技術

半導体実装基板用・LEDディバイス用の露光技術

投影露光装置「UX シリーズ」を中心にした
基本モジュール設計の考え方

ナノインプリントにおけるVUV洗浄・改質技術

ナノインプリントにおける
VUV洗浄・改質技術

タッチパネル製造におけるキュア技術

タッチパネル製造におけるキュア技術

LCD 向け TAB・COF用露光技術

LCD製造の技術動向と、TAB/COF用露光装置最新技術

液晶光配向技術

液晶光配向の市場、技術動向

カラーフィルターの露光技術

カラーフィルターの露光技術

産業用LED

紫外線LED
ウシオの取り組み状況について

照明用LED

一般照明用LEDの市場動向

一次産業用LED

植物育成におけるLEDの一般動向

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