EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용)

EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용)
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반도체 업계의 고성능, 소형화 및 낮은 전력 소비를 향한 지속적인 발전은 초소형 노출 기술의 개발에 박차를 가하고 있습니다. 13,5mn 파장에서의 EUV (극 자외선) 노출 기술은 가장 촉망 받는 차세대 기술들 중 하나입니다.
우시오는 우리의 EUV Xe DPP 및 EUV Sn LDP 광원 기술에서의 연구 개발 경험을 활용하여 포토 마스크 검사 및 다양한 기술 응용 분야에 대한 EUV 광원 개발을 진행하고 있습니다.

EUV 방출 및 프로필

설치된 광원

Note Regarding Exportation

This equipment (or technology) may be subject to security controls under the provisions of the Foreign Exchange and Foreign Trade Control Law, and in order to export the equipment or technology (or to conduct transactions for the purpose of providing the technology to a non-resident or foreign country), it may be necessary to obtain an export permit (or permission to implement service transactions) from the Minister of Economy, Trade and Industry. Be sure to contact us in advance for confirmation.