다목적 노출 유닛 딮 UV Multilight
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딥 UV Multi-light는 균일, 평행 광원으로서 좋은 이력 기록을 갖고 있는 Multi-light 시리즈와 동일한 기본 구조를 유지하면서 230 ~ 330 nm의 깊은 UV 파장 영역에 최적화된 광원 유닛입니다. 리소그래피 응용 뿐만 아니라 다양한 광화학 반응에 대한 평가용 광원으로서 표면 변경에 적용할 수 있는 광원입니다.
균일, 평행 광원
광학 기본 성능은 리소그래피의 채택에도 적용 가능합니다.
광대역 파장
365 nm, 405 nm 및 436 nm 등의 일반적인 UV의 밝은 라인의 스펙트럼에 대한 230 nm ~ 330 nm의 짧은 파장의 영역을 포함합니다.
컴팩트, 탁상-사이즈 디자인
양산을 위한 리소그래피 장비에 대한 연구 개발 응용에 데스크탑 크기의 제품도 이용 가능합니다.
고강도(휘도) 쇼트 아크 UV 광원
균일한 평행광에 최적화된 우시오의 고 강도 쇼트 아크 UV 램프를 장착하여 미세한 패터닝을 달성했습니다.
높은 조도, 넓은 지역 지원
규소 웨이퍼 양산을 위한 리소그래피 광원 유닛 및 대형 LCD 컬러 필터 노출 광원 유닛의 설계 및 제조 경험을 이용해 노출 영역을 넓히고 노출 표면의 조사 강도를 증가시키는 데 목표를 둔 램프 하우스의 설계를 가능하게 했습니다.
10 kW까지의 다양한 광원에 대해서는 저희와 협의해 주세요.
10 kW까지의 다양한 광원에 대해서는 저희와 협의해 주세요.
Non-electrolytic copper plating pattern by surface modification patterning
수지 필름 등의 포토마스크를 통해 친수 영역을 선택적으로 생성.
전해질이 아닌 구리 도금 패턴은 도금 시드 레이어의 친수 영역이 흡수된 뒤에 형성됩니다.
전도체는 포토리지스트 패터닝에 의하지 않고도 형성될 수 있습니다.
Non-electrolytic copper plating pattern by photosensitive material patterning
깊은 UV 파장 영역에서 흡수성을 갖는 감광 소재를 시드 층으로 사용한 전해질이 아닌 구리 도금 패턴의 예. (자료 제공: 금속 및 표면 기술 연구소, 칸토 가쿠인 대학, 및 JCU사)
