172nm Excimer System

172nm Excimer System
  • 즐겨 찾기
  • 인쇄
  • 개질
  • 실험
  • 세정
  • MEMS, 전자부품
  • 반도체

12인치 웨이퍼 반도체용으로, 엑시머 광조사기를 탑재한 단동(Stand-Alone)형 장치입니다.
FOUP를 구비하여, 레시피(recipe) 설정에 따라 자동으로 엑시머광을 웨이퍼에 조사함으로써 Ashing 프로세스등을 시행합니다.

사양

조사파장

172nm

방사조도

100mw/cm2

조도균일도

±15%

조사영역

300mm / 12inch

반송속도

1~250mm/sec

Z축 조절

2~15mm

특징

・챔버내부 특정 분위기 유지 가능

・Heating Chuck(25~250℃)

・Scan Stage 의한 적산노광량 조절

Nano Imprint Mold Cleanging 

Wafer 표면상의 유기물 제거

산화막 성막

설치된 광원