172nm Excimer System

12인치 웨이퍼 반도체용으로, 엑시머 광조사기를 탑재한 단동(Stand-Alone)형 장치입니다.
FOUP를 구비하여, 레시피(recipe) 설정에 따라 자동으로 엑시머광을 웨이퍼에 조사함으로써 Ashing 프로세스등을 시행합니다.

조사파장	172nm
방사조도	100mw/cm2
조도균일도	±15%
조사영역	300mm / 12inch
반송속도	1~250mm/sec
Z축 조절	2~15mm
특징	・챔버내부 특정 분위기 유지 가능 ・Heating Chuck(25~250℃) ・Scan Stage 의한 적산노광량 조절

설치된 광원