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EUV 검색결과

제품명 제품개요 주용도 및 분야 파장
EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용) EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용) 반도체 업계의 고성능, 소형화 및 낮은 전력 소비를 향한 지속적인 발전은 초소형 노출 기술의 개발에 박차를 가하고 있습니다. 13,5mn 파장에서의 EUV (극 자외선) 노출 기술은 가장 촉망 받는 차세대 기술들 중 하나입니다. 우시오는 우리의 EUV Xe DPP 및 EUV Sn LDP 광원 기술에서의 연구 개발 경험을 활용하여 포토 마스크 검사 및 다양한 기술 응용 분야에 대한 EUV 광원 개발을 진행하고 있습니다.
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