USHIO

光技術情報誌「ライトエッジ」No.1(1995年冬発行)

第54回応用物理学会学術講演会講演予稿集No.1

(1993年秋季)

27a-HE-6
172nm誘電体バリヤ放電ランプによる
テフロンの親水性処理
Surface Modification of Teflon by 172nm VUV lamp

東海大(工)、ウシオ電機(株) 津田 裕、山根啓嗣、大越昌幸、松野博光、五十嵐龍志、村原正隆
Tokai Univ,USHIO INC. T.Tsuda,K.Yamane,M.Okoshi,H.Matsuno ,T.Igarashi ,and M.Murahara

はじめに

テフロンは、他の高分子材料の中で、最も化学的に安定である。このため、様々な分野での応用が期待されている。しかし、樹脂表面は撥水性や撥油性を呈し、他の材料との接着は極めて困難である。そこで我々は、ArFエキシマレーザー(193nm)の光化学反応によって、親水基や新油基など、特定の官能基をテフロン表面に置換する改質法を報告してきた[1]。ここでは、テフロン表面の親水化を目的として、水を用いた場合の真空紫外ランプ(172nm)の照射効果について調べたので報告する。

実験方法および結果

水を介して、テフロンフィルムに真空紫外ランプを0~2分間照射した。そして、改質された表面の水との接触角を測定し、試料の親水性を評価した。その結果をFig.1に示す。2分のランプ照射時間によって、接触角はほぼ0度となり、強い親水性を発現することができた。

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