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液晶・ディスプレイの検索結果

製品名 製品説明 主な用途・分野 波長
目視検査用光源ユニット「230VILS」 高精細な検査を簡単に。 目視検査に適したランプ搭載の新型光源ユニットです。

カタログを見る PDF(514KB)

エキシマ点灯電源モジュール バリア放電ランプ用の電源モジュールです。正弦波ではなく独自のパルス点灯方式を採用しているため高効率を実現しております。小型で信頼性の高いトランスが安定した高電圧を実現します。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
大気圧プラズマ用電源モジュール 大気圧プラズマ生成に最適な電源モジュールです。さまざまなプラズマヘッドにカスタマイズ可能です。また、並列接続することで、大電力に対応可能です。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
ロングアークランプ用点灯電源 各種ロングアークランプに対応するため、広い出力電圧範囲をカバーした点灯電源です。パワーモジュールのマルチコネクトシステムを構築し、システム制御部を共通とした出力4kW、8kW、18kWの3モデルをラインナップしています。パワーモジュールは内蔵するDSPでデジタル制御されており、フェーズシフト・フルブリッジ回路方式の採用により大出力においても高い効率を達成しています。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
超高圧UVランプ用電源 当社の超高圧UVランプ点灯電源です。250~35kWの超高圧UVランプ用の点灯電源をラインナップしております。 12kWでは200A超の高出力電流まで制御可能です。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
電源修理サービス 各種電源の修理を承っております。中国、韓国、台湾に修理業務体制を整えており、電源の故障等のトラブルが発生した際、日本に送り返すことなく現地で解決することが可能です。保守修理の際にはお気軽にご相談ください。 技術紹介ページへ 本技術にご興味がある方はこちらまでお問合せください お問い合わせフォームへ
分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」 分割投影露光装置「UX-5シリーズ」「UX-7シリーズ」

ウシオでは、サーバーやPC、スマートフォン、タブレット端末等の携帯機器に採用される最先端パッケージングアプリケーションに特化したステッパーを提供してきました。ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用い、パネルサイズに対応したステージを用いたパッケージ基板向けステッパーです。最先端パッケージ基板に求められる高い解像性や重ね合せ精度を実現しつつ、高生産性を達成しています。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系 ・他に類を見ない大面積投影レンズ

投影露光装置「UX-4シリーズ」 投影露光装置「UX-4シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術に独自の大面積投影レンズ技術を用いたプロジェクションアライナーです。8インチまでのウェハをマスクと非接触で一括露光することが可能です。広い焦点深度を用いた平らでないウェハに対する露光を可能にし、プロキシミティアライナーには無い高生産性、高歩留りを達成します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」 プロキシミティ露光装置「UX-3シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

マスクアライナー「UX-1シリーズ」 マスクアライナー「UX-1シリーズ」

ウシオが長年培った光源・光学技術を用いたマスクアライナーです。ihg線のみならず、Deep UV波長帯域にも対応した露光装置です。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系

ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」 ロールtoロール投影露光装置「UFXシリーズ」

累積800台以上の市場実績がある、ウシオのフレキシブル基板用プロキシミティ/投影露光装置のラインナップ。専用に開発した高出力ランプ、定評のある光学系技術を駆使した投影レンズにより、高効率で高解像度な露光を実現します。

【要素技術】
・世界シェアNo.1の超高圧UVランプ搭載
・高い均一度を誇る独自の照射光学系
・他に類を見ない大面積投影レンズ

エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット エキシマランプ/エキシマ光照射ユニット

エキシマVUV光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生みだされる非常にエネルギーの高い光です。

希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギー電子を与えると放電プラズマ(誘電体バリア放電)が多数発生します。このプラズマは高いエネルギー電子を包含しており、かつ瞬時に消滅するという特徴を持っています。このプラズマ放電により、放電ガス(希ガス)の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態(Xe)となります(エネルギーの高い軌道原子に励起され、エキシマ励起分子になります)。このエキシマ状態から元の状態(基底状態)に戻るとき、そのエキシマ特有のスペクトルを発光します。この光をエキシマVUV光と呼んでいます。

■取扱説明書や仕様書はこちら(会員登録が必要です)

プリンタブル パターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」 プリンタブル パターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」

世界初ランプ方式の真空紫外平行光アライナー。
真空紫外光による親水化パターニング方式により従来のリソグラフィープロセスに比べ大幅な工程短縮を実現すると共に印刷方式では得られない微細パターン形成を実現します。有機トランジスタ、ウェアラブルセンサー、バイオデバイスなど新しい領域の実現へ道を開きます。また、新開発の高輝度パルス光源(PAT出願中)を平行光化することで、L/S=5/5μm以下の解像性能を実現。大面積化のご相談も承ります。
※使用レジスト:東京応化工業株式会社製:TArF-P6111(膜厚260nm)

紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュア®システム」 紫外線瞬間乾燥装置「ユニキュアシステム」 ハイパワー、コンパクト、低温処理を実現するUV硬化・乾燥装置です。目的に応じて、ランプやUV強度、照射幅などのコンポーネントが可能です。 取扱説明書はこちら (会員登録が必要です)
LEDスポットUV照射装置 「SPL-2」 LEDスポットUV照射装置 「SPL-2」 30年以上の実績を持つスポットキュアシリーズのLEDタイプです。今までに培ってきた光学技術を生かし、従来LED式では実現できなかった課題を解決。お客様のニーズに合わせた照射をご提案いたします。
スポットUV照射装置 「スポットキュア®シリーズ」 スポットUV照射装置 「スポットキュアシリーズ」 約30年間にわたり培ってきた光システム技術を活かした「スポットキュア シリーズ」は、使いやすさを追求し、さらに環境にも配慮。ラインやワークの条件に合わせ、レンズやユニットなどもオプションも豊富に取り揃えています。 取扱説明書やトラブルシューティング、外観図CADデータはこちら (会員登録が必要です)

『塗布と塗膜』2015年11月号 PDF(2.31MB)

検査照明用光源ユニット「オプティカルモデュレックス」 検査照明用光源ユニット「オプティカルモデュレックス」

輝度の高いUVランプを搭載し、検査に欠かせない高精度な平行光を照射。ガラス、フイルム、レンズの目視検査に最適な、15年以上の実績を持つ卓上タイプの検査用光源ユニットです( ガラス工業会の検査光源推奨機)。

カタログを見る PDF(3.71MB)

多目的均一照射ユニット「Deep UV マルチライト」 多目的均一照射ユニット「Deep UV マルチライト」 Deep UVマルチライトは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm~330nmのDeep UV領域に最適化した光源ユニットです。 リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。
露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 露光装置用光源ユニット 「マルチライト」 均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
【この製品は、ウシオライティングの製品です】

超高圧UVランプ(500W~35kW) 超高圧UVランプ(500W~35kW) 装置メーカーとの共同開発体制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開発を進め、高い評価と信頼を得ているリソグラフィ用UVランプです。 500w~35kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上・歩留まり改善などに最適な光をご提案します。また、お客さまの新規装置開発にあわせたランプ開発も承ります。 ■取扱説明書はこちら(会員登録が必要です)
Deep UVランプ Deep UVランプ キセノンランプをベースに水銀などの金属蒸気を封入した高輝度・点光源のランプです。 230nm~320nm付近の遠紫外域の放射に特徴があり、短波長を利用した光化学反応、UVキュアリング、リソグラフィなどで活用されています。
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