フォトリソグラフィ

【英語名】 photo lithography

【読み方】 ふぉとりそぐらふぃ

フォトリソグラフィとは、感光剤（フォトレジスト）を塗布したシリコン基板などに、原板となるパターン（フォトマスク、レチクル）を紫外線などの光放射で照射し、露光させ、回路などのパターンを生成する技術のこと。リソグラフィと呼ぶこともある。

※フォトリソグラフィ用の紫外線光源は、半導体の微細化の進行とともに短波長化が進んでいる。超高圧水銀ランプはg線(436nm)からi線(365nm)へ、そしてエキシマレーザもKrF(248nm)からArF(193nm）へと進み、さらに次世代の超微細露光光源としてEUV（極端紫外光、13.5nm)の開発が進行している。

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