極（端）紫外（EUV）光源

【英語名】 extreme ultra-violet light source

【読み方】 きょく（たん）しがい（いーゆーぶい）こうげん

極（端）紫外（EUV）光源とは、極端紫外光（EUV）を放射する光源のこと。
極端紫外（EUV）は「極紫外」ともいい、この光源は、大別すると、LPP(laser produced plasma)とDPP(discharge produced plasma)の発光方式がある。LPP方式は、YAGレーザやCO2レーザで原料を照射し、プラズマを発生させてEUV光を取り出す。DPP方式は、電極間の放電によりプラズマを発生させて、EUV光を取り出す。
→紫外放射を参照。

※半導体の微細化に伴い、水銀ランプのg線(436nm)、i線(365nm)から、エキシマレーザのKrF(248nm)、ArF(193nm)と短波長化が進み、ハーフピッチ65nm台の実現をみた。
しかし45nm台の本格的な量産を目前に、使用波長からくる限界から、液浸露光技術が導入されるなど、これまでに比べて露光プロセス技術が複雑になりつつある。
この限界を破り、更にハーフピッチ30～10nm台の実現を目指し、EUV光源(13.5nm)の開発が進められている。

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