반도체 업계의 고성능, 소형화 및 낮은 전력 소비를 향한 지속적인 발전은 초소형 노출 기술의 개발에 박차를 가하고 있습니다. 13,5mn 파장에서의 EUV (극 자외선) 노출 기술은 가장 촉망 받는 차세대 기술들 중 하나입니다.
우시오는 우리의 EUV Xe DPP 및 EUV Sn LDP 광원 기술에서의 연구 개발 경험을 활용하여 포토 마스크 검사 및 다양한 기술 응용 분야에 대한 EUV 광원 개발을 진행하고 있습니다.
엑시머 램프/엑시머 조사 유닛
엑시머 VUV 광은 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 함유한 램프에 의해 생성된 아주 높은 에너지의 빛입니다. 외부에서 높은 에너지의 전자를 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 합유한 램프에 적용하면 강렬한 플라즈마 방출을 생성합니다(유전체 장벽 방전). 이 플라즈마는 높은 에너지의 전자를 함유하며 즉시 소멸되는 것이 특징입니다. 이 플라즈마 방출은 즉시 방출 가스(희가스) 의 원자를 엑시머(Xe) 상태로 여기 시킵니다(높은 에너지의 궤도 원자가 엑시머 여기 분자를 형성). 엑시머-특정 스펙트럼은 원자기 엑시머 상태에서 원래의 상태 (기저 상태) 로 돌아올 때 방출됩니다. 이 방출을 VUV 광이라고 부릅니다.
검사를 위한 광원 유닛 Optical Modulex
고강도 UV 램프를 장착하여 검사 업무에 필수적인 높은 정밀도의 평행 조사를 제공합니다. 데스크 타입의 광원 유닛은 15년 이상의 실제 결과 기록의 이력을 가지고 있으며 유리, 필름 및 렌즈의 외관 검사에 이상적입니다 (또한 검사 광원은 유리 제조사 협회에서 추천하고 있습니다).
다목적 노출 유닛 딮 UV Multilight
딥 UV Multi-light는 균일, 평행 광원으로서 좋은 이력 기록을 갖고 있는 Multi-light 시리즈와 동일한 기본 구조를 유지하면서 230 ~ 330 nm의 깊은 UV 파장 영역에 최적화된 광원 유닛입니다. 리소그래피 응용 뿐만 아니라 다양한 광화학 반응에 대한 평가용 광원으로서 표면 변경에 적용할 수 있는 광원입니다.
다목적 노출 유닛 Multilight
접촉/근접 교정기와 함께 사용하며 “Multilight”는 다양한 변형이 가능합니다. 미세한 필터링을 요구하는 응용분야에 추천합니다.
UV-LED 균일 표면 조명 광원 UniField
이 UV LED 조사 유닛은 넓은 영역, 고강도 및 높은 균일 조사의 다중 파장의 선택이 가능합니다.
설치된 우시오의 독점적인 렌즈는 증가된 조사 거리로 인한 조도 손실을 최소화 합니다.
인쇄용 UV-LED
Uni Jet 시리즈
우시오의 UniJet 시리즈는 UV 경화 및 인쇄에 대한 까다로운 요구를 만족시키기 위해 최적으로 설계되고 개발된 모듈식 UV 광원으로 구성되어 있습니다. 이 이상적인 광원 기술은 기존의 램프 기반의 UV 광원에 대한 대안으로 추구되어 왔습니다. 우시오의 M, L, I, E 및 A 시리즈 형태의 다양하고 고객에 맞춘 설계는 UV 경화 및 인쇄 산업 분야와 수많은 상업적 및 산업적 응용 분야의 기능적 요구 사항을 충족시키기 위해 개발되었습니다. 이러한 모듈들은 수냉식, 공기 냉각식 및 다양한 디밍 기능들을 결합하여 각각의 고객의 사양과 요구 사항을 보장합니다.
