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제품명 제품개요 주용도 및 분야 파장
대형 필드 스테퍼 UX-5 시리즈 UX-7 시리즈 대형 필드 스테퍼 UX-5 시리즈 UX-7 시리즈 우시오는 서버와 PC 그리고 스마트폰 및 태블릿 PC와 같은 휴대 기기에 채택된 최신 패키징 어플리케이션용 특수 스테퍼를 제공합니다. 스테퍼는 패널 사이즈와 오랜 시간 동안 광원 및 광학 기술 분야에서의 전문성으로 함양된 우시오의 독점적인 넓은 영역 투영 렌즈 기술에 해당하는 단계를 사용하고 있는 패키지 기판을 위한 것입니다. 고해상도와 최신 패키징 기판에 요구되는 오버레이 정확성을 실현하면서 높은 생산성을 구현합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
광범위 투영 정렬기 UX-4 시리즈 광범위 투영 정렬기 UX-4 시리즈 이 투영 정렬기는 우리의 특별한 넓은 영역 프로젝터 렌즈 기술, 광원 및 우시오가 오랜 동안 개발해온 광학 기술을 사용하고 있습니다. 마스크를 건드리지 않고 8인치 까지 웨이퍼의 원샷 노출을 제공합니다. 큰 피사계 심도는 비평면 웨이퍼의 적절한 노출을 가능하게 해 근접 정렬기로는 불가능했던 높은 생산성과 생산량을 달성합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
접촉/근접 정렬기 UX-3 시리즈 접촉/근접 정렬기 UX-3 시리즈 이 마스크 정렬기는 우시오가 수년에 걸쳐 개발해온 광원과 광학 기술을 사용하고 있습니다. 이 노출 기기는 ihg 선을 지원할 뿐만 아니라 깊은 UV 범위 또한 지원합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다.
수동 타입 접촉/근접 정렬기 UX-1시리즈 수동 타입 접촉/근접 정렬기 UX-1시리즈 이 마스크 정렬기는 우시오가 수년에 걸쳐 개발해온 광원과 광학 기술을 사용하고 있습니다. 이 노출 기기는 ihg 선을 지원할 뿐만 아니라 깊은 UV 범위 또한 지원합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다.
롤투롤 리소그래피 기구 UFX 시리즈 롤투롤 리소그래피 기구 UFX 시리즈 현재 우시오의 플렉서블 기판용 근접/투영 노출 시스템은 800 유닛 이상의 이력 기록을 가지고 있습니다. 고효율 고해상도 노출은 우리의 특별히 개발된 고출력 램프 및 우리의 광학 시스템 기술 분야에서 확립된 명성을 최대로 활용한 프로젝터 렌즈로 달성됩니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
엑시머 램프/엑시머 조사 유닛 엑시머 램프/엑시머 조사 유닛 엑시머 VUV 광은 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 함유한 램프에 의해 생성된 아주 높은 에너지의 빛입니다. 외부에서 높은 에너지의 전자를 희가스 또는 희가스 수소 화합물을 합유한 램프에 적용하면 강렬한 플라즈마 방출을 생성합니다(유전체 장벽 방전). 이 플라즈마는 높은 에너지의 전자를 함유하며 즉시 소멸되는 것이 특징입니다. 이 플라즈마 방출은 즉시 방출 가스(희가스) 의 원자를 엑시머(Xe) 상태로 여기 시킵니다(높은 에너지의 궤도 원자가 엑시머 여기 분자를 형성). 엑시머-특정 스펙트럼은 원자기 엑시머 상태에서 원래의 상태 (기저 상태) 로 돌아올 때 방출됩니다. 이 방출을 VUV 광이라고 부릅니다.
인쇄 가능 패터닝용 광원 유닛
VUV-Aligner 인쇄 가능 패터닝용 광원 유닛 VUV-Aligner 세계 최초의 VUV 램프 타입 평행 광 정렬기. VUV 조사를 사용한 친수성 패터닝 기술은 인쇄 기술로 얻을 수 있는 것 보다 더 미세한 패턴 형성을 제공하는 반면 기존의 리소그래피에 비교해 상당한 공정의 수를 줄인 고정밀 패턴 형성을 달성했습니다. 유기 트랜지스터, 웨어러블 센서 및 바이오칩과 같은 새로운 응용 분야에 새로운 길을 열었다고 할 수 있습니다. 새롭게 개발된 고강도 평행 펄스 광원 시스템(특허 출원 중) 은 5/5* µm L/S (라인/공간) 해상도를 구현합니다. 넓은 표면 영역에 사용이 가능한지에 대해서는 연락 주십시오. *Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 의 TArF-P6111 레지스트 사용 (필름 두께: 260 nm)
UV 즉석 건조 기기 유니큐어 시스템 UV 즉석 건조 기기 유니큐어 시스템 고출력, 컴팩트 UV 경화 및 건조 장비는 저온 처리를 달성했습니다. UV 강도 및 의도하는 목적에 필요한 조사 영역에 따라 램프 및 기타 구성 요소를 선택할 수 있습니다. 지침 매뉴얼은 여기에서 (등록이 필요합니다)
LED 스팟 UV 조사 유닛 SPL-2 LED 스팟 UV 조사 유닛 SPL-2 이 점 경화 시리즈 LED 타입은 30년이 넘는 실제 결과물들을 갖고 있습니다. 지금까지 개발해온 우리의 광학 기술을 활용하여 기존 LED 타입으로는 해결할 수 없었던 문제들에 대한 해결책을 제공합니다. 우리는 고객의 필요에 맞는 제품을 제안합니다.
점 UV 조사 유닛Spot Cure 시리즈 점 UV 조사 유닛 Spot Cure 시리즈 Spot Cure 시리즈는 사용 편의성과 환경적 고려사항을 추구하여 30년 이상 축적된 우리의 광 시스템 기술을 활용합니다. 우리는 다양한 렌즈 및 라인과 작업물의 상황에 맞는 옵션들을 제공합니다.
검사를 위한 광원 유닛 Optical Modulex 검사를 위한 광원 유닛 Optical Modulex 고강도 UV 램프를 장착하여 검사 업무에 필수적인 높은 정밀도의 평행 조사를 제공합니다. 데스크 타입의 광원 유닛은 15년 이상의 실제 결과 기록의 이력을 가지고 있으며 유리, 필름 및 렌즈의 외관 검사에 이상적입니다 (또한 검사 광원은 유리 제조사 협회에서 추천하고 있습니다).
다목적 노출 유닛 딮 UV Multilight 다목적 노출 유닛 딮 UV Multilight 딥 UV Multi-light는 균일, 평행 광원으로서 좋은 이력 기록을 갖고 있는 Multi-light 시리즈와 동일한 기본 구조를 유지하면서 230 ~ 330 nm의 깊은 UV 파장 영역에 최적화된 광원 유닛입니다. 리소그래피 응용 뿐만 아니라 다양한 광화학 반응에 대한 평가용 광원으로서 표면 변경에 적용할 수 있는 광원입니다.
다목적 노출 유닛 Multilight 다목적 노출 유닛 Multilight 접촉/근접 교정기와 함께 사용하며 “Multilight”는 다양한 변형이 가능합니다. 미세한 필터링을 요구하는 응용분야에 추천합니다.
초고압 UV 램프(500W~35kW) 초고압 UV 램프(500W~35kW) 점점 다양해지는 요구에 대응하기 위해 기기 제조업체들과 공동으로 개발한 이 리소그래피 UV 램프는 사용자들의 신뢰와 더불어 큰 갈채를 받고 있습니다. 우리의 폭넓은 500 W ~ 35kW급 램프 라인업에서 생산성을 지원하고 생산량을 개선할 수 있는 최적의 조사 솔루션을 제공할 수 있습니다. 우리는 또한 귀사가 개발한 기기에 맞춘 램프도 개발할 수 있습니다.
딮 UV 램프 딮 UV 램프 크세논 램프를 기반으로 하는 수은 증기 충전 고강도 점 광원 램프입니다. 230~320 nm의 파장 범위의 원자외선 조사가 특징이며 짧은 파장의 광화학 반응, UV 경화 및 리소그래피에 사용됩니다.
할로겐 램프 히터 할로겐 램프 히터 이 할로겐 히터는 85% 이상의 입력 전원을 열로 전환해 결과적으로 아주 효율적인 열원이 되는 할로겐 램프로부터 효율적으로 적외선을 추출해 내기 위해 개발되었습니다. 할로겐 램프의 가열은 유연성과 제어성에 있어 풍부함이 있어 다른 열원이 제공하지 못하는 뛰어난 특성을 가집니다. 우시오의 열처리 시스템은 반도체, LCD, 및 자동차 부품 및 CFRT 같은 수지 소재 등의 가열 같은 전기 기기 제조 공정 등의 다양한 산업분야에 사용되고 있습니다.
플래쉬 램프 강화기 플래쉬 램프 강화기 플래쉬 램프의 가열 냉각은 1000분의 1초 정도로 극히 짧은 가열 공정을 가능하게 합니다. 플래쉬 램프에서 방출된 UV ~ 가시 파장 광은 열을 기판 (소재) 표면에 집중시켜 아래의 필름 또는 기판이 받는 열로 인한 영향이 기존의 열원에 비해 극히 적습니다. 이 밀리세컨드 표면 열 처리는 반도체 이식층의 제로 확산 및 열 budget 감소 같은 미래 기기 개발에 필요한 필수 기술이 되고 있습니다. 플래쉬 램프 가열은 결정화, 접합, 박리, 분해 및 경화와 같은 반응을 만들어 내는 데에도 사용됩니다. 이 특성들은 생산(제조)라인 응용 분야 뿐만 아니라 Si 웨이퍼, SiC 웨이퍼, 유리, 플라스틱 필름 및 기타 플렉서블 기판과 같은 다양한 기술 개발 응용 분야에도 효율적으로 적용됩니다. 실험 시연 요청을 환영하고 있으니 언제든 연락 주십시오.
UV-LED 균일선 조명 광원UniLine UV-LED 균일 선 조명 광원 UniLine 이 제품 라인 광원은 고강도, 높은 균일성의 UV 조사, 다중 파장을 지원합니다. - 독점적인 광학 설계는 10~150mm의 다양한 조사 거리를 지원합니다. 조사 길이는 줄일 수 있습니다.
UV-LED 균일표면 조명 광원UniField UV-LED 균일 표면 조명 광원 UniField 이 UV LED 조사 유닛은 넓은 영역, 고강도 및 높은 균일 조사의 다중 파장의 선택이 가능합니다. 설치된 우시오의 독점적인 렌즈는 증가된 조사 거리로 인한 조도 손실을 최소화 합니다.
UV 조사 미터
UIT-201 UV 조사 미터 UIT-201 500 W ~ 35kW 급의 다양한 램프 라인업으로 우리는 고객의 생산성을 지원하고 생산량을 향상시키기 위해 최적의 조사 솔루션을 제공할 수 있습니다.
누적 UV 미터 UIT-250 누적 UV 미터 UIT-250 Unimeter 시리즈는 광학 기기 생산업체로서의 우리의 경험과 전문성을 바탕으로 개발되었습니다. 이 컴팩트한 광학 측정 기기는 사용자 입장에서 참으로 사용하기에 쉽습니다. UV 경화, 세정 및 살균 시스템 뿐만 아니라 조사 시스템을 포함한 다양한 기기들의 강성을 유지하는데 사용됩니다.
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