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노광 검색결과

제품명 제품개요 주용도 및 분야 파장
대형 필드 스테퍼 UX-5 시리즈 UX-7 시리즈 대형 필드 스테퍼 UX-5 시리즈 UX-7 시리즈 우시오는 서버와 PC 그리고 스마트폰 및 태블릿 PC와 같은 휴대 기기에 채택된 최신 패키징 어플리케이션용 특수 스테퍼를 제공합니다. 스테퍼는 패널 사이즈와 오랜 시간 동안 광원 및 광학 기술 분야에서의 전문성으로 함양된 우시오의 독점적인 넓은 영역 투영 렌즈 기술에 해당하는 단계를 사용하고 있는 패키지 기판을 위한 것입니다. 고해상도와 최신 패키징 기판에 요구되는 오버레이 정확성을 실현하면서 높은 생산성을 구현합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
광범위 투영 정렬기 UX-4 시리즈 광범위 투영 정렬기 UX-4 시리즈 이 투영 정렬기는 우리의 특별한 넓은 영역 프로젝터 렌즈 기술, 광원 및 우시오가 오랜 동안 개발해온 광학 기술을 사용하고 있습니다. 마스크를 건드리지 않고 8인치 까지 웨이퍼의 원샷 노출을 제공합니다. 큰 피사계 심도는 비평면 웨이퍼의 적절한 노출을 가능하게 해 근접 정렬기로는 불가능했던 높은 생산성과 생산량을 달성합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
접촉/근접 정렬기 UX-3 시리즈 접촉/근접 정렬기 UX-3 시리즈 이 마스크 정렬기는 우시오가 수년에 걸쳐 개발해온 광원과 광학 기술을 사용하고 있습니다. 이 노출 기기는 ihg 선을 지원할 뿐만 아니라 깊은 UV 범위 또한 지원합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다.
수동 타입 접촉/근접 정렬기 UX-1시리즈 수동 타입 접촉/근접 정렬기 UX-1시리즈 이 마스크 정렬기는 우시오가 수년에 걸쳐 개발해온 광원과 광학 기술을 사용하고 있습니다. 이 노출 기기는 ihg 선을 지원할 뿐만 아니라 깊은 UV 범위 또한 지원합니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다.
롤투롤 리소그래피 기구 UFX 시리즈 롤투롤 리소그래피 기구 UFX 시리즈 현재 우시오의 플렉서블 기판용 근접/투영 노출 시스템은 800 유닛 이상의 이력 기록을 가지고 있습니다. 고효율 고해상도 노출은 우리의 특별히 개발된 고출력 램프 및 우리의 광학 시스템 기술 분야에서 확립된 명성을 최대로 활용한 프로젝터 렌즈로 달성됩니다. 【구성 기술】 - 세계 제일의 초고압 UV 램프 포함 - 우리의 조사 광학 시스템은 높은 수준의 균일성을 자랑합니다. - 경쟁자가 없는 넓은 영역 프로젝터 렌즈
EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용) EUV 광원(포토 마스크 검사 및 다양한 기술 개발용) 반도체 업계의 고성능, 소형화 및 낮은 전력 소비를 향한 지속적인 발전은 초소형 노출 기술의 개발에 박차를 가하고 있습니다. 13,5mn 파장에서의 EUV (극 자외선) 노출 기술은 가장 촉망 받는 차세대 기술들 중 하나입니다. 우시오는 우리의 EUV Xe DPP 및 EUV Sn LDP 광원 기술에서의 연구 개발 경험을 활용하여 포토 마스크 검사 및 다양한 기술 응용 분야에 대한 EUV 광원 개발을 진행하고 있습니다.
인쇄 가능 패터닝용 광원 유닛
VUV-Aligner 인쇄 가능 패터닝용 광원 유닛 VUV-Aligner 세계 최초의 VUV 램프 타입 평행 광 정렬기. VUV 조사를 사용한 친수성 패터닝 기술은 인쇄 기술로 얻을 수 있는 것 보다 더 미세한 패턴 형성을 제공하는 반면 기존의 리소그래피에 비교해 상당한 공정의 수를 줄인 고정밀 패턴 형성을 달성했습니다. 유기 트랜지스터, 웨어러블 센서 및 바이오칩과 같은 새로운 응용 분야에 새로운 길을 열었다고 할 수 있습니다. 새롭게 개발된 고강도 평행 펄스 광원 시스템(특허 출원 중) 은 5/5* µm L/S (라인/공간) 해상도를 구현합니다. 넓은 표면 영역에 사용이 가능한지에 대해서는 연락 주십시오. *Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 의 TArF-P6111 레지스트 사용 (필름 두께: 260 nm)
다목적 노출 유닛 딮 UV Multilight 다목적 노출 유닛 딮 UV Multilight 딥 UV Multi-light는 균일, 평행 광원으로서 좋은 이력 기록을 갖고 있는 Multi-light 시리즈와 동일한 기본 구조를 유지하면서 230 ~ 330 nm의 깊은 UV 파장 영역에 최적화된 광원 유닛입니다. 리소그래피 응용 뿐만 아니라 다양한 광화학 반응에 대한 평가용 광원으로서 표면 변경에 적용할 수 있는 광원입니다.
다목적 노출 유닛 Multilight 다목적 노출 유닛 Multilight 접촉/근접 교정기와 함께 사용하며 “Multilight”는 다양한 변형이 가능합니다. 미세한 필터링을 요구하는 응용분야에 추천합니다.
초고압 UV 램프(~500W) 초고압 UV 램프(~500W) 우시오의 초고압 UV 램프는 3개의 자외선 파장 (436, 405, 365nm) 을 효율적으로 활용하도록 개발되었으며 안정정인 조사와 긴 수명의 고강도 광원입니다. 램프의 아크 사이즈가 점 광원의 아크 사이즈에 가까워 광학시스템에 의해 빛을 쉽게 모으고 확산시킬 수 있으며 균일한 조도 분포를 쉽게 얻을 수 있습니다.
초고압 UV 램프(500W~35kW) 초고압 UV 램프(500W~35kW) 점점 다양해지는 요구에 대응하기 위해 기기 제조업체들과 공동으로 개발한 이 리소그래피 UV 램프는 사용자들의 신뢰와 더불어 큰 갈채를 받고 있습니다. 우리의 폭넓은 500 W ~ 35kW급 램프 라인업에서 생산성을 지원하고 생산량을 개선할 수 있는 최적의 조사 솔루션을 제공할 수 있습니다. 우리는 또한 귀사가 개발한 기기에 맞춘 램프도 개발할 수 있습니다.
딮 UV 램프 딮 UV 램프 크세논 램프를 기반으로 하는 수은 증기 충전 고강도 점 광원 램프입니다. 230~320 nm의 파장 범위의 원자외선 조사가 특징이며 짧은 파장의 광화학 반응, UV 경화 및 리소그래피에 사용됩니다.
고출력 UV 레이저 다이오드 고출력 UV 레이저 다이오드 이 CAN 타입의 멀티 모드 청색-자색 레이저는 고출력(150mW ~ 1W)과 긴 수명 (10,000 작동 시간)을 달성했습니다. 이 광원은 PCB 및 의료, 바이오 의료 및 측정 분야의 직접 이미지 노출 시스템에 이상적입니다. *USHIO OPTO SEMICONDUCTORS, INC의 제품입니다.
성형 타입 LED 모듈 성형 타입 LED 모듈 라인업은 UV 에서 근적외선까지의 다양한 파장과 다양한 렌즈 주형 직경 (3, 4, 5, 7 및 10 mm)를 커버합니다. *USHIO EPITEX INC의 제품입니다.
고출력 TOP LED 모듈 고출력 TOP LED 모듈 이 초고출력 LED는 TO-66 줄기 및 알루미늄 세라믹판 위의 60개의 칩으로 구성되어 있습니다. 파장은 UV엔서 극적외선까지 선택 가능합니다. * USHIO EPITEX INC. 제품입니다.
줄기 타입 LED 모듈 줄기 타입 LED 모듈 자외선, 가시 광선, 또는 근적외선 영역 중에서 목적에 맞는 칩을 선택하십시오, 싱글 패키지로 제공됩니다. * USHIO EPITEX INC. 제품입니다.
SMD 타입 LED 모듈 SMD 타입 LED 모듈 표면 장착 LED들입니다. 높은 방향성 타입을 세라믹 패키지에 포함된 렌즈와 함께 제공합니다. *USHIO EPITEX INC의 제품입니다.
고출력 탑 렌즈 LED 모듈 고출력 탑 렌즈 LED 모듈 이 대형 1mm 사각형 칩은 통합 금속 열흡수원과 함께 보드에 장착된 슈퍼 빔 렌즈에 의해 광분포가 제어되는 초 고출력 LED입니다. *USHIO EPITEX INC의 제품입니다.
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