家庭用白熱電球
姫路電球の広告
大正時代、電球は真空からガス入り電球へ、そして高燭電球へと、急速に進歩。1929年（昭和四年）当時、生産原価約4銭、卸値約5銭、売り値は7～8銭だった。
ジアゾ式複写機用UVランプ
UVランプと青焼き複写機（理化学工業）
ブルーコピーと呼ばれた青焼き複写機（ジアゾ式複写機）は、情報革新の先駆けとして事務効率を飛躍的に向上させた。
映写機用クセノンショートアークランプ
クセノンショートアークランプとクセノン映写機（写真提供：映機工業）
「小さな太陽」と呼ばれた新光源クセノンランプが、鮮やかなカラー映画を再現。それまでの映画の常識を変えた。
写真撮影用クセノンフラッシュランプ
ストロボランプ
ヨウ素ランプ
ヨウ素ランプのカタログ
1964.3
ウシオ電機株式会社 設立
「光」をあかりとしてだけではなく
紫外線を「光化学エネルギー」として
赤外線を「熱エネルギー」として利用することで
新しい光市場を創造する ―
平均年齢23歳、268名の社員たちが信じたのは
光の可能性でした。
照明用クセノンロングアークランプ
クセノンロングアークランプと広場照明
コンパクトなランプから発せられる高演色な光が、国内外で広く評判に。
照明用クセノンショートアークランプ
クセノンショートアークランプと屋外広告照明
世界初のクセノンショートアークランプによる大型屋外広告照明（京王デパート屋上）
東京オリンピック開催
日本、IMF8条約に移行OECDに加盟
東海道新幹線営業開始
ハロゲンランプ
日本で初めてハロゲンランプを開発
「国産ハロゲンランプの草分け」と言われたウシオのハロゲンランプ。当初は照明用ではなく、コピー機や自動車、スタジオなどの専用用途向け。
映写機用水平点灯方式クセノンショートアークランプ
当時の水平点灯型クセノン映写機（写真提供：映機工業）
ランプを縦から横にすることで光の効率がUP。以後、水平点灯方式は今日の主流に。
東京大学向けソーラシミュレータ
ウシオのソーラシミュレータ第1号
6.5ＫＷのクセノンショートアークランプを3灯使用したソーラシミュレータを東大宇宙航空研究所に納品。
ビートルズ来日
中国、文化大革命
日本人口1憶人超える
普通紙複写機用ハロゲンランプ
複写機用ハロゲンランプ（原稿読み取り用／トナー定着用）
イタイイタイ病、四日市のぜんそく訴訟
公害対策基本法交付
IC露光装置「ユニマスク」
コンタクト方式が主流の当時に、プロジェクション（写像）方式を世界で初めて実用化。現在のウシオの露光装置「UXシリーズ」の原点。
大阪万国博覧会開幕
人口衛生「おおすみ」打ち上げ成功
日航機よど号乗っ取り
ソーラシミュレータ用水冷式クセノンショートアークランプ（30kW）
当時、世界最大の出力を誇った。
自動車フォグランプ用ハロゲンランプ
この年、ハロゲンランプが自動車用として初めて市場投入された。
米アポロ11号、月に着陸成功
東名高速道路全線開通
全米でベトナム反戦デモ
サーチライト（クセノンショートアークランプ）
大阪万博のシンボル「太陽の塔」
ウシオのクセノンショートアークランプを搭載したサーチライトが使用された。
大阪万国博覧会開幕
人口衛生「おおすみ」打ち上げ成功
日航機よど号乗っ取り
レーザ核融合用大出力クセノンフラッシュランプ
大阪大学 核融合センターに納品されたガラスレーザのポンピング用フラッシュランプ。
ハロゲン標準電球
CIE（国際照明学会）大会で認定。ウシオの光が世界標準に。
沖縄返還協定調印
中国国連に加盟
マクドナルド1号店 銀座に開店
多桁電光表示管「U-パナプレックス」
今日の液晶ディスプレイなどのはしりともいえる、光による情報表示システム。
集光式紫外線照射装置「スポットキュア」
汚泥燃焼処理装置／廃液廃油焼却装置
公害防止分野に進出
微小濃度測定装置／微小寸法測定装置
公害測定用として開発。微細計測は顕微鏡による目視確認が主流の当時、コンピュータと連動した自動光計測に着手。
札幌冬季オリンピック開催
日本列島改造論
連合赤軍の浅間山総事件発生
ハロゲン集魚灯「イカライト」
従来比で寿命5倍、明るさ2倍、サイズは半分。ウシオの漁火はアジア各国に拡がった。
OPEC6ヶ国石油大幅値上げ
第一次石油ショック
日中国交回復で両国大使館設置
円、変動相場制移行
紫外線水殺菌装置
低圧UVランプを内蔵した紫外線水殺菌装置
紫外線硬化・乾燥装置「ユニキュアシステム」
光で「固める」ユニキュアシステム
今日も多彩な派生製品が誕生している、ウシオのベストセラー製品。当初はラベルやシールの印刷用途向けだった。
佐藤元首相、ノーベル平和賞受賞
日中貿易協定調印
人工衛星試験用大型ソーラシミュレータ
ソーラシミュレータ光源部
水冷式クセノンショートアークランプを19灯搭載し、宇宙開発事業団（現JAXA）に納品。この後、政府のサンシャイン計画にも参画。
沖縄海洋博開幕
ベトナム戦争終結
第一回先進国首脳会議開催
超LSI焼付用Deep UVランプ
Deep UVランプ
それまで数分かかっていたウェハの焼付けを、わずか数十秒に短縮。
王選手、ホームラン756号世界新記録
我が国初の静止衛星「ひまわり」打ち上げ成功
イラン・イラク戦争
自動車生産台数世界一
メタルハライド緑色集魚灯「グリーンビーム」
イカやサバ、サンマなど。海水透過率に優れる緑色光を持ち、白熱電球の5倍以上の省燃費。
ポートピア81開幕
中国残留日本孤児、初来日
スペースシャトル初飛行
半導体用ハロゲンヒータ
エピタキシャル結晶膜形成用として開発。光ならではのクリーン、均一、素早いエネルギー制御が高い評価を得た。
太陽電池検査用ソーラシミュレータ
太陽コレクター（集熱器）の特性試験、自動車・空調器・植物育成などの環境試験、化学反応の解析などにも利用された。
紫外線強力殺菌装置「ユニライザー」
ユニライザーの光源ユニット
殺菌性能を一挙に10倍（従来比）に高めた世界初の量産化タイプ。食品包装材・容器殺菌、他に無菌純水用として開発。
アークイメージファーネス
クセノンランプの光を光学系によって微小面に集光させ、瞬時に3,000℃の超高温環境をつくり出し、高融点物質（タングステンやモリブデンなど）の融解、合成、結晶成長などを可能に。
日航機、羽田沖に墜落
ホテル・ニュージャパン火災
東北新幹線開業
光洗浄装置「フォトレックス」
フォトレックス1号機
半導体や水晶振動子の表面に付着した分子レベルの微細な有機化合物（汚れ）を、低圧ＵＶランプの紫外線により除去（ドライクリーニング）する世界初の光洗浄装置。この技術は、のちのエキシマランプによる精密光洗浄装置の基礎となる。
大韓航空機、ソ連軍機に撃墜
日本海中部地震
ロッキード裁判
半導体露光用UVフラッシュランプ
超LSIアライナー（半導体露光装置）用として開発。
液晶バックライト用小型蛍光ランプ
イメージリーダ用小型蛍光ランプ
液晶カラーテレビやビデオカメラ（ビューファインダー）のバックライトとして使用。「熱陰極方式」により高照度化と長寿命化を両立。
メタルハライド白色集魚灯
2ｋWクラスで、ハロゲンランプの集魚灯8灯分に相当する世界最大の光量30万ルーメンを出力。
紫外線照射装置「ハンディキュア」
ＵＶインキ・塗料向けのコンパクトなハンディタイプのユニキュアシリーズ。手もちで照射できるため、多角的な立体照射が可能に。
グリコ・森永事件
紫外線ホトレジスト硬化装置「ユニハード」
エッチング前処理用のレジスト硬化装置で、超LSIの製造ラインに組み込まれた、ウシオ初の光の装置。強力な遠紫外線（ＤＵＶ）によって、レジストの変形やダレを防ぎ、短時間で微細パターンを高精度に保つことができる。
筑波科学万博開催
日航機、御巣鷹山に墜落
ユニキュア・コールドＵＶシリーズ
熱に弱い、プラスチックや紙を素材とした化粧品のボトル、洗剤の容器などのカラー印刷を可能に。
集光式紫外線照射装置「新型スポットキュア」
1972年開発製品の集光性を高めた新型。電子部品・光学部品の精密接着を、分から秒レベルに短縮し、精密機器の組立工程の効率向上に貢献。
積算光量計「ユニメーター」
超LSI露光装置や、光化学反応分野での照度・光量管理用として開発。
サファイアランプ
世界で初めてバルブにサファイアを用いたフィラメント電球。サファイアは、石英や硬質ガラスと異なり、可視光から6500ナノメートルの赤外線まで、幅広い波長域の光を透過する。それまで困難だった一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素などの、濃度測定が可能に。
チェルノブイリ原子力発電所事故
東京サミット開催
男女雇用機会均等法施工
多目的均一照射装置「マルチライト」
250W超高圧UVランプを使った多目的の光源ユニット。高性能インテグレーター（照度の均一性を得るための光学ユニット）搭載で、高レベルの照度均一度・中心平行度を実現。後に開発される露光装置に搭載されるなど、光の装置の基幹エンジンとなる。
照明用赤外線反射膜付ハロゲンランプ
JCVプラスクール
従来のハロゲンランプ（ＪＣＶタイプ）に比べ、照明に不要な赤外線を40％、消費電力を15％カット。
国鉄、分割民営化でJR6社発足
米ソ、IMF全廃条約に調印
ＴＡＢ露光装置
フィルム基板に高精細な回路パターンを焼き付ける装置。基板がシート状になることで、ノートパソコンや携帯電話、液晶ディスプレイなどがより小さく、薄く、軽く、しかも折り曲げが可能に。
人工日焼け装置「サンタンライト・サニー」
医学的に有害な光を除き、効率よく、安心して日焼けできる装置。
光触媒型空気清浄機「ベルフロー」
業界初の光触媒方式を採用した、一般家庭用の本格的空気清浄機。家ダニやチリなどを強力に集塵するだけでなく、光触媒方式による脱臭・殺菌機能も備えていた。
全自動イカ釣機
イカ釣りの職人技能を、コンピューターで全自動システム化。
遠赤外線ハロゲンヒーター「ブラックライト」
特殊セラミックをハロゲンランプ表面にコーティングし、3から5ミクロメートルの遠赤外線を出力ピークにもつ、ヒータ用光源。暖房・乾燥・調理をはじめ、食品加工・健康医療分野に展開。
プラズマ重合膜レプリカ作成装置
透過電子顕微鏡では直接観察できない物体表面の凸凹を、転写・複製し被膜（レプリカ）を作成する装置。
東京ドーム完成
青函トンネル開業
小型クセノンサーチライト「発見電」
船舶用として開発。150Wクセノンショートアークランプを搭載し、光度150万カンデラ、色温度6000ケルビンの強力な白色ビームを放つ。後に、建築現場や消防車に搭載されるなど、陸上でも普及。
ウエハー周辺露光装置
紫外線でウェハ周辺の不要なレジストを高精度かつシャープに除去。半導体の生産性の向上、工程のクリーン化に大きく寄与した。
パーティクル検査装置
世界初、真空中のパーティクルを、レーザー光でリアルタイムに測定する光計測器。
昭和天皇崩御、平成に改元
天安門事件
ベルリンの壁崩壊
クッキング用ヒーターユニット
スムーズトップ（平滑表面）型クッキングヒーター用として、欧州市場向けに開発。
照明用メタルハライドランプ（シングルエンドタイプ）
高級化の進むデパート・大型ショッピングセンターなど、光量アップをはかる店舗の照明演出として用いられる。
小型クセノンサーチライト「U-BEAM」
発見電の特徴を引き継いだ、プレジャーボード用サーチライト。
秋山豊寛、ソ連ソユーズの宇宙飛行士に
国際花と緑の博覧会開幕
長崎普賢岳噴火
半導体露光装置用「SUVランプ」（i 線ランプ）
SUVランプ
4メガビットから16メガビットへと高集積化が進み、さらに次世代半導体（64メガビット）の開発が進む中、より細かい回路焼付けのため、より短波長の紫外線が求められていた時代。SUVランプは、ｉ線（365ナノメートル）を狭帯域でピークにもち、従来と同じ大きさのICに4倍サイズの回路焼き付けを可能にした。
ウェハー周辺ステップ露光装置
1989年開発のウエハー周辺露光装置にステップ機能を付加。ゴミのもととなるウエハー周辺の不要なレジストを、チップ形状にそって除去し、ウエハーのムダのない利用を可能に。
湾岸戦争
ソ連解体
地球サミット開催
山形新幹線開通
バルセロナオリンピック開催
誘電体バリア放電エキシマランプ
世界で初めて製品化。当初は液晶業界での光洗浄用途向け。装置化は1994年。
大面積投影露光装置
マイクロマシニング用として開発。超高圧UVランプと投影露光技術によって、照射面積200ミリ角（従来は70ミリ角）、焦点深度100ミクロン（従来は数10ミクロン）を、初めて実現。
光学式微小線幅測定装置
半導体のレジストパターンの線幅を測定・検査する装置。
ダイクロハロゲン
ネット模様のスーパーラインカットのミラーを採用し、従来の1.5倍の集光力、約20％の省エネルギー、コンパクト化を実現。
プロサッカー・Jリーグ開幕
EC12カ国、単一市場発足
米コア副大統領 情報ハイウェイ構想発表
エキシマVUV／O3洗浄装置
エキシマランプ開発の1年後に登場した｢エキシマ光洗浄装置」。ハイテク分野の難題である有機化合物の汚れ“を除去する光によるファインクリーニング装置であり、水や薬品によるウェット洗浄、また超音波や紫外線（低圧ＵＶランプ）によるドライ洗浄に比べても、十倍以上の洗浄速度と洗浄度、1/3の消費電力、低温処理などを可能にした。
立体形状作製装置「ユニラピッド」
1991年に開発した光造形用He-Cdレーザ（325ナノメータ）を搭載。三次元CADで設計した部品や製品の立体モデルを、紫外線硬化型樹脂を用いて全自動で作製。
関西国際空港開港
松本サリン事件
向井千秋、スペースシャトルで宇宙へ
マーキング装置「ユニマークSC」
多品種・小ロットの電子部品のマーキング用に開発。金型（ステンシルマスク）不要で、広い印字面積に一筆書きやイラスト、ロゴマークが描ける。
阪神・淡路大震災
地下鉄サリン事件
宇宙空間用ハロゲンランプ
海色海温走査放射計（OCTS）と高性能可視近赤外放射計（AVNIR）のキャリブレーション（校正）用として開発。
自動車用青色ハロゲンランプ
液晶リソグラフィ用UVランプ
液晶カラーフィルタ露光用として開発した8ｋWの超高圧UVランプ。大型化する基板に対応するため。ランプも大出力化が進む。
液晶プロジェクタ用メタルハライドランプ
極間精度0.1ミリメートル、250W。後のプロジェクタ用超高圧UVランプ「NSHランプ」の先駆け。
携帯電話急増
薬害エイズ問題
O-157集団食中毒発生
分光放射照度計「スペクトロ・ラディオメーター」
外部電極式希ガス蛍光ランプ
OA機器の読み取り用光源。従来の小型蛍光ランプに比べ、2倍以上の高照度と高安定性を実現し、次世代型デジタル複写機の高速化にも大きく寄与。
温暖化防止京都会議開催
香港、中国に返還
長野新幹線開業
液晶プロジェクタ用「NSHランプ」
DLP（デジタル・ライト・プロセシング）方式プロジェクタの大画面化や画質向上に対応。超高圧UVランプをベースに開発した高輝度光源。
明石海峡大橋開通
金融監督庁発足
冬季オリンピック 長野大会開幕
プリント基板用ステップ＆リピート投影露光装置「UX-5」
高い解像度、深い焦点深度を実現する投影レンズ技術に加え、高精度の重ね合わせ、位置あわせのズレを解消するアライメントの新技術などにより、大面積の基板上を、ワンショット毎に繰り返し露光。
デジタルシネマ映写機
米国初のデジタル映写機による上映作品は「スターウォーズ」。日本でのデジタル映写機による上映は2001年。
EU単一通貨ユーロ始動
世界人口60億突破
携帯・PHS55000万台突破、iモード誕生
滴下式液晶パネル貼り合わせ用紫外線照射装置
光で貼り合わせる装置。従来の「注入方式」を｢滴下方式」にすることで、ガラス基板を貼り合わせ液晶を封入する貼り合わせ処理時間を、10時間から、一気に数分に短縮。
PDT（光線力学療法）用ランプ
赤外線に近い領域の可視光を効率よく放射するメタルハライドランを応用。
マイクロTAS接着装置
マイクロTASの基板となる、ガラスとPDMS（シリコンゴム）を、接着剤を使用せず、真空紫外光で接着させる装置。
九州・沖縄サミット開催
IT基本法制定
セラミッククセノンランプ（ミラー一体型クセノンランプ）
内視鏡や顕微鏡向けに開発。
フラッシュランプアニール
1/1,000秒で表層のみを瞬間加熱。LSI基板に微細トランジスタを接合。
アメリカ同時多発テロ
狂牛病感染問題
スーパーコネクト用ステップ&リピート投影露光装置「UX-7」
サッカー日韓共催ワールドカップ2002
北朝鮮拉致被害者5人帰国
ＴＡＢ検査装置
フレキシブルプリント基板（ＴＡＢ）の回路パターン検査装置。照明された基板のパターンをＣＣＤカメラに取り込み、画像処理によって判定。
米英・イラク開戦
構造改革特区スタート SARS 感染問題
スプレーコーター
200マイクロメートルの凹凸のある立体面に、切れ目なく、均一にレジストをコーティング。
小型肝機能検査システム
世界初となる、新光源の光とバイオチップを用いた肝機能検査システム。半導体メーカーとの共同開発によるもので、ウシオは、バイオチップに導入した微量の血液を分析する「血液分析装置」を担当。
自衛隊イラク派遣
マスク/ペリクル異物検査装置
露光装置用レチクルのレチクル上面、およびペリクル下面に付着した異物を短時間で自動検査。
耐震偽装問題
北朝鮮の核保有めぐり6カ国協議
日本人の人口、初の減少
赤外線治療器「セラビームVR630」
赤外線領域の波長630nmと670nmにエネルギーのピークをもつ専用の「メタルハライドランプ」を搭載。
日本郵政株式会社発足
トリノ冬季五輪で荒川静香が金メダル
任天堂「Wii」発売
ArFエキシマランプ
ArFエキシマランプと照射ユニット
世界で初めて、レーザでしか発光できなかった193nmの光をランプで実現。
台湾新幹線開業
慈恵病院「赤ちゃんポスト」設置許可
郵政民営化
水銀レス蛍光ランプ「XEFL」
世界初、紫外線領域（183nm～340nm）の中から必要な発光波長が選択できる水銀レス光源。水銀を用いないため、環境面で優れているだけではなく、ランプ内側の蛍光体の特性に応じて発光波長が選択できる。
紫外線治療器「セラビーム®UV308」
エキシマライトにより、従来よりも効果の高い308nmの紫外線を、乾癬、白斑、アトピー性皮膚炎などの患部に照射して処置する紫外線皮膚治療器。 紫外線皮膚治療器としては世界で初めて、エキシマフィルターを搭載し、健康な皮膚へのリスクを低減し患部に対し効果的かつ、安全に照射治療を行うことが可能。
マルチフィラメント・ヒータ
温度制御が可能なハロゲンヒータランプで、 半導体や太陽電池製造用途に開発。温度が下がりやすい周辺部を独立フィラメントにより温度を高めに設定するなど、必要な光を必要な場所に必要な量だけ最適に加熱することが可能。
米国リーマン・ブラザーズが経営破たん
ノーベル賞日本人4人受賞
LED搭載スポットUV照射装置「SPL-1」
1972年から続く集光式紫外線照射装置「スポットキュア」ではじめてLED光源を搭載。2011年にはファイバー光源式LED スポットUV照射装置「スポットキュア SPL-2」を発売。
オバマ氏、第44代米国大統領に就任
裁判員制度スタート
一括投影露光装置「UX-4」シリーズ
UX4装置外観と露光部
大面積を一括処理可能な投影レンズを搭載。高輝度LED製造用「UX4-LEDｓ」および、パワー半導体製造向け「UX4-ECO」を2010年に、3D LSIデバイスの製造向け「UX4-3Di」および、MEMS製造用「UX4-MEMS」を2011年に発表。
半導体パッケージ基板用モジュラー型ステッパ「UX5」シリーズ
199年開発のUX-5を、現行世代の要求性能までグレードアップ。しかもレンズやアライメント、光源、搬送など主要な機能をモジュール化した新設計により、将来、必要な機能だけをアップグレード・カスタマイズすることが可能。
ギリシャで債務危機勃発
アップル社、iPadを発売
探査衛星「はやぶさ」帰還
OA機器原稿読み取り用LEDモジュール
モジュール1本あたりわずか1～2個のLEDチップ搭載で、従来の希ガス蛍光ランプと同等の明るさを実現。しかも消費電力は75％削減。
ナノインプリントVUVアッシングユニット「CHiPs」
LED、MEMS、機能性フィルム、バイオチップなど各種デバイスの回路パターン形成に用いられるナノインプリントリソグラフィ装置に内蔵でき、テンプレートやワークの洗浄･表面改質･アッシングを非接触・ダメージレスで実現。
UV硬化型インクジェットプリンタ用光源「UV-LEDモジュール」
微小なインクを非接触かつダイレクトに塗布し、紫外線によりインクを速乾させるUVインクジェットプリンタ対応。瞬時のON-OFF制御による電力ロスや生産性低下を防ぐ上、LED特有の長寿命、水銀不使用による環境配慮が特長。
紫外線薄型照度計「UIT-θ365」
世界で最も薄い4.9mmの紫外線薄型照度計。煩雑な配線の取り回しが不要なワイヤレスタイプで、高さ制限や照射距離間などの照射条件に因らず、実際の製造時と同一条件下での正確なUV照度測定・管理が可能となり、さまざまなUVプロセスにおける品質向上を実現。
アナログ放送終了
東日本大震災
小笠原諸島、世界自然遺産に登録
2.5D/3D積層パッケージング向け大面積ステッパシステム「UX7」シリーズ
2002年開発のUX-7を、2.5D積層構造の最先端半導体デバイス製造向けにリニューアル。Φ200mm、φ300mｍウェハに対応し、78×66mmの大ショットサイズを持つ大口径の投影露光レンズを搭載し、大面積基板と高スループットによりインターポーザの製造コストを大幅に削減。
エキシマ光照射器「Min-Excimer」
卓上でのエキシマ光実験を可能にしたＡ5サイズのエキシマ光照射器。簡易かつ柔軟に親水化や改質などのエキシマ光実験を可能に。
東京スカイツリー開業
山中氏ノーベル賞受賞
血液分析装置「ポイントリーダー」
日本初、血清フェリチンの定量分析をイムノクロマト法で実現。専用試薬も自社で販売。
プリント基板向けダイレクト・イメージング装置 「UDIシリーズ」
ウシオ初の直描方式で、次世代パッケージの解像力5µm L/S、高スループット35秒/枚を達成 。FC-CSPはもちろん、従来のDIでは実現できなかった高精度なデザインルールのFC-BGAプロセスをも可能に。
「VUV直接脱硝」技術
世界で初めて、排ガスに含まれる大気汚染物質のNOｘ(窒素酸化物)を、VUV(真空紫外線)を利用し常温かつ無触媒で脱硝できる「VUV直接脱硝」技術を開発。
インプラント用紫外線照射装置「TheraBeam SｕperOsseo」
装置外観と照射時（内部）
欧州で販売を開始したインプラント用紫外線照射装置。チタン製人工歯根の表面を紫外線照射により活性化することで、インプラントと骨との接合能力を約3倍以上改善させると共に、治癒期間を約半分に短縮。
リソグラフィ用LED光源
LEDから出た光を高効率で平行光に変換するLEDコリメーション技術により、業界最高の平行光変換効率90％を実現。半導体やＭＥＭＳ製造におけるリソグラフィプロセスなど、光強度の高い平行光が必要な用途でのLED光源採用が現実的に。
東証と大証が経営統合
テレビ放送開始60年
富士山、世界文化遺産登録
真空紫外(VUV)平行光ユニット
世界で初めて、フォトレジスト不要で直接かつ微細パターニングが可能に。
ハロゲンヒータ用「温度計測システム」
世界初、外乱光の影響を補正し正確に測定。従来の温度測定方法では難しかった非接触かつリアルタイムでの正確な温度管理を可能に。
NISA開始
消費税8％
世界文化遺産に「富岡製糸場」
スポットUV照射装置「スポットキュア® SP-11」
スポットキュア® SP-9と比べて、照度3倍でUV接着工程時間を1/3に短縮。
パーソナル吸光度計「Picoscope®」
スマートフォンやタブレット端末と連携し、たんぱく質や重金属、環境ホルモン、DNAなどの濃度測定や検出ができるコンパクトなパーソナル吸光度計。
ブラウン管TV生産終了
マイナンバー制度制定
日本郵政、ゆうちょ、かんぽ 株式上場
可視化照明用シートビームレーザー
シンガポール国立大学との産学共同プロジェクト。
紫外線殺菌技術を用いた手術時の感染症防止や手指殺菌などの
アプリケーション開発に期待。
空間殺菌・脱臭用光オゾナイザー「XeFIria（ゼフィリア）シリーズ」
世界で初めて水銀フリーのランプを搭載。
従来の紫外線方式と比べ、オゾン生成力は約10倍。
NOxレスでより安全な空間殺菌・脱臭用光オゾナイザー。
紫外線皮膚治療器「セラビーム®UV308 mini」
乾癬、白斑、アトピー性皮膚炎などの患部に308nmの紫外線、エキシマライトを照射して処置する紫外線治療器「セラビーム®UV308」のハンディタイプ。
臨床に携わる多くの皮膚科医からの要望を受け開発。
オランダ研究機関にて高輝度EUV光源のファーストライトに成功
レーザアシストプラズマ放電方式（SnLDP）を採用。
2017年3月には、オランダTNOにおいて光学部品やマスク・ぺリクル・センサー
など各種研究・評価サービス受付も開始。
印刷用UV-LED乾燥装置「UniJet iⅢ（ユニジェット アイスリー）」
印刷用UV-LED乾燥装置「UniJetシリーズ」の新ラインナップ。
空冷式において業界最高性能の高照度・高積算光量を実現。
光技術を活用した微細加工サービスを開始
微細光学素子や各種部品の開発・製造ノウハウをベースに、
微細加工の受託および機能部品を販売。
世界初、人体に無害な222nm紫外線による褥瘡創傷の細菌消毒に成功
シンガポール国立大学との産学共同プロジェクト。
紫外線殺菌技術を用いた手術時の感染症防止や手指殺菌などの
アプリケーション開発に期待。
紫外線皮膚治療器「セラビームR UV308」
エキシマフィルターを搭載した紫外線皮膚治療器「セラビームRシリーズ」の最新機種。
安全性はそのままに、本体のスリム化と操作性を向上させ、照射面積は前機種比で1.2倍に。
オフセット枚葉印刷機用UV-LED乾燥装置
印刷用UV-LED乾燥装置「UniJetシリーズ（ユニジェット）」の新ラインナップ。
商業印刷の高速印刷に求められる高照度・高積算光量をLEDで実現。
これからのウシオ電機
いま、「光」への期待はますます大きくなっています。
先進技術や医療の発展・進化はもちろん、人口増加や環境問題、エネルギー問題など
地球規模の課題を解決する答えのひとつが「光」だと私たちは考えています。
ウシオは“光のプロフェッショナル”として、
これからも光の可能性に挑戦し続けます。
- ～1964
- 1964.3～
- 1970～
- 1980～
- 1990～
- 2000～
- 2010～
- 2018