Photomask Japan 2021よりBest Oral Presentation Awardを受賞
ウシオ電機株式会社（本社：東京都、代表取締役社長 内藤 宏治、以下 ウシオ）は、この度、リソグラフィ工程で使われるマスクに関する国内唯一の国際学会「Photomask Japan 2021」（以下 PMJ)より、Best Oral Presentation Awardを受賞しました。
Best Oral Presentation Awardは、聴講者の投票およびPMJ論文委員会の審査で選ばれた発表に対して表彰されるものです。第27回目としてオンライン形式で開催されたPMJ2021では、338名の聴講者を前に39件の発表が行われ、表彰された2社のうちの1社として、ウシオの「High-brightness LDP source for EUVL mask inspection（EUVマスク検査用高輝度LDP光源）」の発表が選ばれました。
今回の発表では、最先端半導体マスク検査用光源として波長13.5nmのEUV（極端紫外線）光源の特性や強み等を紹介しました。最先端半導体の普及に大きく貢献するEUVリソグラフィは新しい技術ですが、ウシオは長年の研究開発の結果、世界で唯一、このマスクパターン検査用EUV光源を市場に投入しており、その量産プロセスの確立を支えています。
ウシオは、今後も継続的にフォトマスク検査用EUV光源技術を進展させ、最先端半導体製造プロセスに貢献してまいります。
■ご参考
・Photomask Japan 2021についてはこちらをご覧ください。
受賞したトロフィー
Best Oral Presentation Awardは、聴講者の投票およびPMJ論文委員会の審査で選ばれた発表に対して表彰されるものです。第27回目としてオンライン形式で開催されたPMJ2021では、338名の聴講者を前に39件の発表が行われ、表彰された2社のうちの1社として、ウシオの「High-brightness LDP source for EUVL mask inspection（EUVマスク検査用高輝度LDP光源）」の発表が選ばれました。
今回の発表では、最先端半導体マスク検査用光源として波長13.5nmのEUV（極端紫外線）光源の特性や強み等を紹介しました。最先端半導体の普及に大きく貢献するEUVリソグラフィは新しい技術ですが、ウシオは長年の研究開発の結果、世界で唯一、このマスクパターン検査用EUV光源を市場に投入しており、その量産プロセスの確立を支えています。
ウシオは、今後も継続的にフォトマスク検査用EUV光源技術を進展させ、最先端半導体製造プロセスに貢献してまいります。
■ご参考
・Photomask Japan 2021についてはこちらをご覧ください。