Ushio Techno Lab 御殿場
ウシオの「光のプロセス」の多彩なノウハウが集約された御殿場事業所。
半導体・FPD製造を中心に、装置の設計や開発・製造はもちろん、製造プロセスの改善や量産化の検討も行います。
■ 主な実験内容
【VUV照射実験】 真空化でのVUV照射による表面改質（親水化、接合、改質など）
【パターニング実験】 感光性材料へのパターン形成（Si、ガラス、セラミック、化合物半導体、フレキシブル基板、有機基板など）
【配向実験】 偏向紫外線照射による物質の異方性生成（無アルカリガラス、フィルムなど）
【ハードニング実験】 赤外線加熱と紫外線によるキュアリング（ウェハなど）