Ushio Techno Lab 韓国(水原技術センター)

UVランプやクセノンショートアークランプなどの各種ランプと、露光装置や光学装置など幅広い製品を販売する韓国ウシオ。
VUV照射による表面改質やUV光による硬化、さらには加熱や水処理などの実験が可能です。

実験 内容 対象材料 アプリケーション スペック
VUV照射実験
(搬送ステージ付き)
エキシマランプによる表面洗浄と表面改質 材質不問 親水化、接合、改質など 照射波長::172nm
放射照度:170mw/cm2
搬送速度:0.15∼7.6m/min
有効照射幅:510mm
半導体向VUV照射実験
(Scan照射)
エキシマランプによる表面洗浄と表面改質 ウェハ(直径300㎜まで) アッシング、親水化、接合、改質など 発行波長 :172nm
放射発散度:100mW/㎠
有効照射幅:340㎜
VUV照射実験
(一括照射)
エキシマランプによる表面洗浄と表面改質 材質不問 親水化、接合、改質など 発行波長 :172nm
放射発散度:12mW/㎠
有効照射幅:6inch
ハロゲンヒータ照射実験 ハロゲンヒータによる硬化 材質不問 硬化など ユニットタイプ:フォーカス
電力密度:3mW/cm (MAX:9mW/cmまで調節)
有効照射幅:300mm
SPIR照射実験 IR波長まで対応可能なSPOT硬化 材質不問 硬化など 発行波長:300∼1000nm
放射発散度:900mW/㎠以上(UVD-S405、1分岐FIBER、照射距離50mm)
有効照射幅:62.6mm(1分岐FIBER、照射距離50mm)
UV CURE照射実験 コンベアステージのUV CURE照射 材質不問 硬硬化など ランプ出力:8kW
搬送速度:0.6∼0.48m/min
有効照射幅:500mm
水処理実験 工程水の一般細菌及びTOC除去 半導体、ディスプレイ、
製薬市場など
TOC除去、殺菌など 処理能力:3.1ton/h(UVT94%, 一般細菌)
非加熱殺菌実験 UV照射による殺菌 飲料他の液体物 殺菌 照射波長:280nm
LED出力:30mw×25個
液体容量:約10ℓ
UV AOP実験 UVを活用する高度酸化処理 下・廃水 水質改善 装備構成:オゾン+UV+活性炭
処理能力:1ton/h

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