Ushio Techno Lab 韓国(水原技術センター)

UVランプやクセノンショートアークランプなどの各種ランプと、露光装置や光学装置など幅広い製品を販売する韓国ウシオ。
VUV照射による表面改質やUV光による硬化、さらには加熱や水処理などの実験が可能です。
実験 | 内容 | 対象材料 | アプリケーション | スペック |
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VUV照射実験 (搬送ステージ付き) |
エキシマランプによる表面洗浄と表面改質 | 材質不問 | 親水化、接合、改質など | 照射波長::172nm 放射照度:170mw/cm2 搬送速度:0.15∼7.6m/min 有効照射幅:510mm |
半導体向VUV照射実験 (Scan照射) |
エキシマランプによる表面洗浄と表面改質 | ウェハ(直径300㎜まで) | アッシング、親水化、接合、改質など | 発行波長 :172nm 放射発散度:100mW/㎠ 有効照射幅:340㎜ |
VUV照射実験 (一括照射) |
エキシマランプによる表面洗浄と表面改質 | 材質不問 | 親水化、接合、改質など | 発行波長 :172nm 放射発散度:12mW/㎠ 有効照射幅:6inch |
ハロゲンヒータ照射実験 | ハロゲンヒータによる硬化 | 材質不問 | 硬化など | ユニットタイプ:フォーカス 電力密度:3mW/cm (MAX:9mW/cmまで調節) 有効照射幅:300mm |
SPIR照射実験 | IR波長まで対応可能なSPOT硬化 | 材質不問 | 硬化など | 発行波長:300∼1000nm 放射発散度:900mW/㎠以上(UVD-S405、1分岐FIBER、照射距離50mm) 有効照射幅:62.6mm(1分岐FIBER、照射距離50mm) |
UV CURE照射実験 | コンベアステージのUV CURE照射 | 材質不問 | 硬硬化など | ランプ出力:8kW 搬送速度:0.6∼0.48m/min 有効照射幅:500mm |
水処理実験 | 工程水の一般細菌及びTOC除去 | 半導体、ディスプレイ、 製薬市場など |
TOC除去、殺菌など | 処理能力:3.1ton/h(UVT94%, 一般細菌) |
非加熱殺菌実験 | UV照射による殺菌 | 飲料他の液体物 | 殺菌 | 照射波長:280nm LED出力:30mw×25個 液体容量:約10ℓ |
UV AOP実験 | UVを活用する高度酸化処理 | 下・廃水 | 水質改善 | 装備構成:オゾン+UV+活性炭 処理能力:1ton/h |