投影露光技術

半導体・液晶ステッパをはじめとするさまざまな露光装置に、高エネルギーで高安定な紫外線光源（UVランプ）を提供している光源メーカー、ウシオ。
ＵＸシリーズにおいても、露光装置の開発と同時に光源の開発をスタートさせ、すべての露光装置に、光学系の特性をフルに引き出す専用設計の光源を採用しています。

ランプから放射された光を効率よく集光し、高均一・高平行にマスクを照射する働きをするのが、照明光学系です。各ミラーに施された特殊コーティングにより、露光波長の選択や、熱線カットなども行なわれます。
ウシオの照明光学系技術は、1960年からはじまったスペースチャンバ用ソーラシミュレータ開発で培われた、高度な光学技術からスタートしています。その後、多くの半導体・液晶用露光装置に照明光学系を提供し、露光装置用光学系としての完成度を高めてきました。
「UXシリーズ」の照明光学系は、これまでのノウハウと実績を活かし、ランプ出力や露光波長の豊富なバリエーションを用意するなど、プロセスに応じた理想的な光を供給します。

ウシオは、マスクとワークが非接触のためマスクダメージのない投影露光方式に着目し、従来では困難だった、大面積・低ディストーションの投影レンズを開発しました。
そのウシオ独自の投影レンズは、露光領域が最大φ355mmのものや、解像力2µm L/Sのスペックを持つ低歪レンズをラインナップしています。多様なニーズに最適化した光学設計で、深い焦点深度を維持しながら、さまざまな露光面積、解像度の投影レンズを開発し、シリーズ化しています。

オプションで自社設計のマスクローダー、マスクライブラリを追加することにより、タイムロスのない段取り換えが可能です。
またマスクの自動搬送機能により、マスク破損や作業の品種間違いなど、人為的ミスの削減につながるほか、マスクはマスクケースに入れた状態で移動・装着可能なため、パーティクルの付着防止になります。