エクストリーム製量産試作機用EUV光源、ウェーハへのパターン焼付けに初めて成功 ― IMEC発表 2011.07.12 詳しくはこちらをご覧ください→IMEC Website 補足資料 XTREME technologies GmbH Product Positioning (PDF:140KB) Rationale of Laser-assisted Discharge Plasma (LDP) Technology (PDF:2.54MB) 関連製品 EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け)