EUV光源 (次世代半導体用マスク検査および各種開発用途向け)

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半導体業界では、より高性能でコンパクト、更に低消費電力の半導体の実現に向け、超微細化露光技術の開発が進められています。その中で有力視されているのが波長13.5nmのEUV(Extreme Ultraviolet)光による「EUV露光」です。
ウシオは、これまで培ってきたEUVの研究・開発実績を活かし、EUV露光用のマスク検査装置向けを始め、各種開発用途向けのEUV Xe DPP およびEUV Sn LDP光源の開発を行なっています。

EUVemission and profile

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搭載光源